판매용 중고 EATON NOVA / AXCELIS NV 10-160 #293821332

EATON NOVA/AXCELIS NV 10-160은 속성을 개선하기 위해 이온을 다양한 기판에 이식하는 데 사용되는 고급 이온 임플란터/모니터입니다. 이 기계 는 "반도체 '제조 산업 에 이용 되며, 여러 가지" 이온' 을 기판 에 심는 데 사용 할 수 있다. AXCELIS NV10-160 은 강력한 이온 소스 (ion source) 및 조절 가능한 빔 (beam) 매개변수를 제공하여 정확한 제어를 통해 이온을 기판에 이식할 수 있습니다. EATON NOVA NV 10160에는 10cm x 160도 이온 빔이 장착되어 있습니다. 이를 통해 x축에서 100mm 당 +/- 10 마이크로 미터의 정확도와 y축에서 +/- 1 도의 이온을 이식 할 수 있습니다. 또한, 투영 길이는 최대 15cm이며, 더 먼 거리에서 이온을 이식 할 수 있습니다. 이온 소스는 최대 5 킬로볼트의 전압에서 최대 1.6A의 전류를 생성 할 수 있으며, 그 결과 빔 전류 밀도는 최대 32mA/cm2입니다. 이렇게 하면 기판 에 "이온 '이 균일 하게 이식 되어 그 장치 의 성능 이 향상 된다. EATON NOVA NV10-160은 다양한 모니터링 시스템과도 통합되어 있습니다. IPMC (ion beam position monitoring and control equipment) 는 x축에서 +/- 1 마이크로미터, y축에서 +/- 1 도의 정밀도로 빔 위치를 측정하고 세밀하게 튜닝하여 사용자가 이온을 정확하게 임플란트 할 수 있습니다. 또한, 그 빔 전류 및 강도 모니터링 (BCIM) 시스템은 빔 전류 및 강도를 측정 및 제어 할 수 있으며, 이온이 기판에 균일하게 이식되도록 할 수있다. EATON NOVA/AXCELIS NV 10160의 전자 제어 장치는 다중 페이지 그래픽 사용자 인터페이스 (GUI) 로 설계되었습니다. 이를 통해 사용자는 이온 임플란트 (ion implant) 매개변수를 신속하게 수정하여 프로세스 주기 시간을 최적화할 수 있습니다. 또한 다양한 안전 프로토콜 (Safety Protocol) 과 여러 보호 (Safeguard) 를 제공하여 사용자가 이온 임플란트 프로세스를 안전하게 제어하고 있습니다. 전반적으로 EATON NOVA/AXCELIS NV10-160은 고급 이온 임플랜터/모니터 시스템입니다. 이온 소스 (ion source) 와 조정 가능한 빔 매개변수 (beam parameters) 를 특징으로하여 정확한 제어로 이온을 임플란트할 수 있습니다. 또한 다양한 모니터링 시스템 (monitoring system) 과 통합되어 프로세스 주기 (process cycle) 를 최적화하고 사용자의 안전을 보장할 수 있습니다.