판매용 중고 EATON NOVA / AXCELIS HC3 Ultra #9411352
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ID: 9411352
Ion implanter
YASKAWA Robot
YASKAWA XU-ACL4140 Robot track
Disk type: Variable Speed Drive (VSD)
Wafer transfer type: In-Air
Dry transformer
HYT
Vacuum ARM: CAM Arm
(3) CTI-CRYOGENICS 250 F (On-board) Cryo pumps
(2) CTI-CRYOGENICS 9600 Compressors
Shower type: P-Shower 11020020
Cell type: V6
BROOKS AUTOMATİON Fixload load port
Spare parts:
Part number / Description
1187286 / Disk TC DI Cryo interlock
11053210 / Cell controller V6
11049380 / Scan controller
11054580 / Wafer transfer controller
11054560 / Load lock controller
1195730 / Rotary drive controller
11028010 / Rotary drive amplifier
XU-BCD3111 / YASKAWA Robot driver box
XU-CN0821 / YASKAWA Robot controller box
11050220 / Power dose controller
11017920 / Gas box controller
110000950 / Source controller
1214110 / Filament PSU
1214120 / Arc PSU
1214130 / Cathode PSU
1188151 / Terminal beam line DI
1163967 / Ground electronic DI
1163960 / Ground electronic DI
1195140 / Disk VAC DI
1188310 / Electrode manipulator DI
1214460 / Plasma filament PSU
11020020 / Plasma controller
110098500 / 100101530 / Rotary driver brake controller
2100276 / Source magnet PSU
1188375 / Terminal electronic DI
2200176 / Decal PSU
2200173 / HV PSU Extraction suppression
2200173 / HV PSU Decal suppression
11054570 / Gyro controller
11034940/ 2200175 / AMU PSU (Power ten)
2200187 / Extraction PSU
1196510 / Gyro ball screw assembly
1196610 / V43
1908930 / Air interface
1908940 / Air interface
110001490 / Wafer holder assembly
11030960 / CAM Arm assembly
110002530 / V3 Assembly
11047650 / V7
2014 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS HC3 Ultra는 최신 이온 이온 이식 응용 프로그램의 요구를 충족시키기 위해 설계된 매우 정교한 이온 임플랜터 및 모니터 장비입니다. 이 도구는 최대 50 KeV의 이온 가속, 멀티 스테이지 마운트 가능 진공 챔버, 자동 패턴 시스템 및 강력한 제어 패키지를 갖춘 고류 이온 소스를 특징으로합니다. AXCELIS HC3 Ultra (AXCELIS HC3 Ultra) 는 액티브 마이크로 일렉트로닉스, 유전체 및 기판에서 고품질 레이어를 형성하는 데 특히 유익합니다. EATON NOVA HC3 울트라 (EATON NOVA HC3 Ultra) 는 정전기 침수 렌즈 장치를 사용하여 일관된 이온 빔이 목표 영역을 향하도록 합니다. 이 기계는 또한 사용자가 이온 빔 (ion beam) 의 모양과 크기와 스프레드 (spread) 를 정확하게 조정할 수 있도록 합니다. 또한, HC3 울트라 (HC3 Ultra) 에는 다중 단계 마운트 해제 가능한 진공 챔버가 포함되어 있으며, 이는 이온 이식을위한 안정적인 프로세스 환경을 유지하는 데 도움이됩니다. EATON NOVA/AXCELIS HC3 Ultra에는 고급 사용자 친화적 인터페이스도 있습니다. 직관적인 GUI (Graphical User Interface) 를 통해 사용자는 공구를 완전히 모니터링하고 프로세스를 제어하기 위해 이온 소스 전류 (최대 50 KeV) 와 같은 매개변수를 조정할 수 있습니다. 이 소프트웨어는 또한 사용자가 이온의 빔 모양과 에너지 확산 (energy spread) 을 조정하도록 도와줍니다. 또한, 사용자는 임플란트 프로그램 (Implant Program) 을 선택 및 전환하고 사용자 정의 가스 혼합물을 저장할 수 있습니다. AXCELIS HC3 Ultra에는 여러 가지 혁신적인 기능이 있습니다. 예를 들어, 자동 패턴 (automated patterning) 에셋을 사용하면 미리 선택된 이식 에너지 및 용량으로 기판을 패턴화할 수 있습니다. 또한 사용자가 향상된 레이어 별 이식 프로세스를 수행 할 수있는 독특한 시프트 레지스터 (shift register) 가 특징입니다. EATON NOVA HC3 Ultra는 고급 이식 프로세스에 종사하는 사람들에게 이상적인 이온 임플랜터 및 모니터입니다. 고전류 이온 소스, 다중 단계 마운트 해제 가능한 진공 챔버, 자동 패턴화 모델, 사용자 친화적 인 인터페이스를 통해 빠르고 정확한 임플랜테이션 결과를 달성하는 최적의 툴입니다. 또한, 독특한 시프트 레지스터 (Shift Register) 와 조절 가능한 빔 모양 및 스프레드 특성 (Spread Characteric) 을 통해 다양한 옵션을 통해 고품질 레이어를 패턴화하고 만들 수 있습니다.
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