판매용 중고 EATON NOVA / AXCELIS GSD 200E2 #9026352

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ID: 9026352
Ion implanter, 8" (13) Batch wafers Application process: High current implanter System software Version: 4.9.1 (Sun OS) Utility gas: CDA, Machine air, Swagelok, 3/8" Sus male Ar, Process air, Swagelok, 3/8" Sus male PN2, Process vent, Swagelok, 3/8" Sus male GN2, Purge vent, Swagelok, 3/8" Sus male Exhaust: (2) Environment, GEX, 500 CFM, 8" PVC, has exhaust hood (2) RP Exhaust, SEX, 2" Sus, has exhaust hood (1) Cyro pump, SEX, 20 CFM, 2" Sus, no exhaust hood (1) Gas cabinet, SEX, 500 CFM, 8" PVC, 1, has exhaust hood (1) Source cleaning exhaust, SEX, 65, 2.5" PVC, no exhaust hood Cooling water: (2) RP Cooling water, 14~28 psi, 5~8 GPM, 24º C, 3/8" (1) City water, 55~75 psi, 7.5 GPM, 24º C, 1", to DI cooling water (1) Cyro compressor, 14~28 psi, 5~8 GPM, 24º C, 1" Endstation module: (4) Cassette table (280 mm) (2) Load buffer (1) Dummy buffer Mini-environment: Synetics ATM Robot: OK Notch/Flat finder: Notch type Vacuum cassette: STD (VESPEL Support pin) Load port interface: N/A Beam profile oscilloscope: Tektronix TDS 210 Cell controller/version: Cell 177 (1915690, Rev. A) Loadlock type: STD Main SUN computer: Sparc station 5 Main monitor: 17", LCD Second SUN computer: Yes (function unknown) Second SUN monitor: N/A Tape reader: NG Printer: N/A Process module: Disk: Seg Si Coated, P/N: 11027061 Flag faraday with SRA: OK (11019550) Electron/plasma shower: P-shower (1190160) Plasma shower filament PS: Yes (EMS) Bias aperature: Yes Shower gas panel: Yes (STEC SEC-7320, 2 sccm) Water bleed MFC: MKS (Type: 1150) Ar/Xe Beamguide gas: Motor control In-Vac arm: Yes Wafer holder: Yes Disk wafer clamp/unclamp: Roller type (1180270) Gyro/Angle: NV-GSD-100 Linear drive: OK Rotary drive: Direct drive HYT Sensor: Yes (20SX) Beam profile holes: N/A Disk RGA Port: Yes Resolving housing RGA Port: N/A Wafer charge sensor: Yes P-Shower charge monitor: Yes P-Shower disk current: Yes Loadlock controller type: 4-Axis DI In-air wafer xfer controller: 4-Axis DI Robot controller: 4-Axis DI Beamline module: HV Power supply: Hitek Power Inc. HV Stack: OL8000/104/30, 100 KV Post Accel. Volt: N/A Extraction suppression PS: Glassman, PS/NV-15NN33, 2200158 AMU: Acelis AMU PS: EMS 40-150-2-D0816 Hall probe: Axcelis Max. extraction voltage: 90 KeV Beam profiler hole: N/A Decel function: N/A Beamline purge kit: N/A Source module: Source head/vaporizer: ELS/No vaporizer Filament PS: EMS 10-60 Arc PS: EMS 150-7 Cathode PS: yes Vaporizer PS: N/A Source magnet: Axcelis Source magnet PS: EMS 25-25 Source bushing: Orange Extraction assembly: Yes Variable resolving aperture: Yes Source ISO Transformer: STD Source injection kit: N/A Source cleaning exhaust: Yes Block type: N/A Gas box module: Gap Loop #1: Ar, HP Gap Loop #2: BF3, SDS Gap Loop #3: AsH3, SDS Gap Loop #4: PH3, SDS Loop #1 MFC: MKS 1179A-14493, Ar, 10 sccm Loop #2 MFC: MKS 1640A-011, BF3, 10 sccm Loop #3 MFC: MKS 1640A-011, AsH3, 10 sccm Loop #4 MFC: MKS 1640A-011, PH3, 10 sccm Vacuum system: P1/Source turbo: A2203C, SEIKO SEIKI P1 Controller: STP-A2203C, SEIKO SEIKI P2/Beamguide Cyro pump: CTI OB-8 P3/V3 Cyro pump: CTI OB-10 P9/Disk Cyro pump: N/A RP1: Remote RP2: Remote IG1: SUZUKI G-75-NTT P IG1: SUZUKI G-75-NTT IG2: SUZUKI G-75-NTT IG3: Stabile ion gauge IG Controller: M/N: 360 Safety options: (4) Smoke detectors VESDA: N/A CES Options: N/A Others: (2) Ground bars Enclosures: OK Ground indication lamp: N/A INO Kit: N/A Drawings/Manuals: N/A SECS/GEM Function: OK System 24V UPS: N/A Light tower: G/Y/R SPC Function: OK Does controller pcomp. algorithm type: Turbo dose DI (1526990) Spare parts: N/A Alignment tools: N/A Sub-systems: Main Transformer: TAVR, 3 Phase, 60 Hz, 50 KVA, Pri. 440 V RP1: Ebara, A70WN RP2: Ebara, A70W Compressor 1: CTI_CRYOGENICS, 9650 Input power: 208 V, 60 Hz, 3 Phase, 95 A, 35 KVA Output power: 90 KeV, 20 mA 2001 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS GSD 200E2는 EATON NOVA Technologies, Inc.의 부서 인 AXCELIS가 개발 한 이온 임플랜터 및 모니터입니다. 이 제품은 이온 이식 프로세스에 뛰어난 성능, 안정성 및 다양한 기능을 제공합니다. AXCELIS GSD 200E-2는 각각 최대 8kV 및 3.0 T/m의 다양한 임플란트 깊이와 직경을 제공합니다. 폐쇄 된 빔 라인 디자인을 통합했으며, 소스 및 빔 라인 가스 시스템이 장착되어 있습니다. 빔라인 외부에서 조절 된 가스 시스템은 최적의 입자 에너지, 작업 압력, 각도 모양, 필라멘트 위치 (position of filament) 를 제공합니다. EATON NOVA GSD 200 E2에는 수동 및 자동 작동을 위해 최첨단 제어 시스템이 장착되어 있습니다. 터치 패널 디스플레이에서 사용자는 챔버 압력 (chamber pressure), 필라멘트 (filaments) 및 설정을 제어할 수 있습니다. 또한 내장형 진단 기능이 내장되어 있어 운영자가 시스템을 실시간으로 모니터링할 수 있습니다 (예: 온도, 전압, 가스 수준). EATON NOVA/AXCELIS GSD 200E-2는 이동식 기계식 셔터로 제작되어 안전성과 정확도를 높입니다. 안전 및 기타 성능 기능 측면에서 AXCELIS GSD 200 E2 에는 음향 인클로저 (acoustic enclosure) 와 반도체 프로세싱의 안전 요건을 충족하는 방사선 및 진공 인클로저 (vacuum enclosure) 가 장착되어 있습니다. AXCELIS GSD 200E2 (AXCELIS GSD 200E2) 는 고성능 임플랜터 서비스 시장에서 빠르고 정확한 판독 값을 제공할 수 있는 유일한 이온 임플랜터 및 모니터입니다. GSD 200E2 는 정확한 임플란테이션을 제공할 뿐만 아니라, 프로세스 전반에 걸쳐 환경을 모니터링하고 제어합니다. 입자 궤적, 빔 프로파일, 통계 매개변수를 감지하고 응답할 수 있습니다. 고급 센서와 소프트웨어 설계를 통해, 시스템은 정확한 임플랜테이션 성능과 입자 손상 (particle damage) 을 보장할 수 있습니다. 또한 EATON NOVA/AXCELIS GSD 200 E2는 몰입자를 단단히 이식 할 수 있습니다. 이것은 MEMS 및 기타 마이크로 디바이스 제작과 같은 기술 프로세스에 필수적입니다. EATON NOVA GSD 200E-2는 또한 다양한 입자 유형 및 크기와 다른 이온 종 (ion species) 간의 고속 전환을 특징으로합니다. 정확도가 높고 성능이 저하되는 GSD 200E-2는 시장에서 가장 높은 성능의 이온 임플랜터 (ion implanter) 및 모니터입니다.
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