판매용 중고 EATON NOVA / AXCELIS GSD 200E2 #293813023

EATON NOVA / AXCELIS GSD 200E2
ID: 293813023
웨이퍼 크기: 6"
Ion implanter, 6".
EATON NOVA/AXCELIS GSD 200E2는 반도체 산업의 요구를 충족시키기 위해 EatonAXCELIS Technologies에서 설계 한 이온 임플랜터 및 모니터입니다. 다용도, 고성능 임플란터 (Implanter) 는 다양한 웨이퍼 크기와 재료를 사용하도록 특별히 설계되었습니다. 이 장비 는 "와퍼 '표면 으로" 이온' 을 가속 시킨 다음 "웨이퍼 '표면 을 관통 하여" 이온' 을 이식 시킨다. AXCELIS GSD 200E-2는 임플랜터 중독을 방지하도록 설계된 고효율 진공 시스템을 갖추고 있습니다. 터보 펌프 2 개, 홍수 펌프 2 개, 거친 펌프 2 개, 게이트 밸브 2 개 및 이온 펌프 세트가 있습니다. 이온 펌프는 심기 위해 챔버 압력을 충분히 낮게 유지합니다. 이튼 노바 GSD 200 E2 (EATON NOVA GSD 200 E2) 에는 또한 가스 흐름을 웨이퍼 표면으로 제어하는 데 사용되는 가스 전달 장치 (gas delivery unit) 가 포함되어 있으며, 이는 웨이퍼에 이식 된 종의 균일 한 용량을 보장한다. EATON NOVA GSD 200E-2는 1 × 10-7 ~ 1 × 10-5 torr 또는 Pa의 작동 압력 범위와 2 인치에서 7.5 인치의 웨이퍼 직경 범위를 특징으로합니다. 또한 최대 30 킬로 전자 볼트 (keV) 이온과 최대 100 밀리 암프 (mA) 의 최대 소스 전류를 구동 할 수 있습니다. EATON NOVA/AXCELIS GSD 200E-2에는 임플랜터를 제어하고 실시간 데이터를 모니터링하는 호스트 컴퓨터와 소프트웨어가 장착되어 있습니다. 소프트웨어는 이식을위한 용량, 종 및 기타 매개변수를 프로그래밍하는 데 사용됩니다. 이 컴퓨터에는 각 대상 지점의 정확성을 보장하는 기하학적 프로세서 (geometric processor) 와 용량 분배 (dose distribution) 를 보기 위한 소프트웨어 매핑 (mapping software) 도 포함되어 있습니다. 또한 무단 액세스를 방지하는 일련의 보안 기능이 있습니다. GSD 200E2에는 이온 소스 안전 모듈 (ion source safety module), 이온 대피 기계 (ion evacuation machine) 와 같은 정교한 안전 기능이 통합되어 인원의 최대한의 안전을 보장합니다. 안전 모듈 (Safety Module) 은 챔버 압력 (Chamber Pressure) 과 가스 (Gas) 수준을 모니터링한 다음 매개변수가 허용 한계 내에 있지 않으면 자동으로 공구를 종료합니다. 이온 대피 자산은 안전한 환경을 유지하기 위해 임플란테이션 제품을 신속하게 대피시킵니다. GSD 200E-2는 정밀도, 효율성, 정확도에 대한 업계의 요구를 충족하도록 설계된 고급 모델입니다. 정교한 안전 기능, 우수한 이온 전달 장비 및 실시간 모니터링을 통해 AXCELIS GSD 200E2 는 반도체 생산에 매우 유용한 툴이 될 수 있습니다.
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