판매용 중고 EATON NOVA / AXCELIS GSD 200 #9399024

EATON NOVA/AXCELIS GSD 200은 반도체 산업을위한 고성능 이온 임플란터로, 매우 정확하고 품질의 임플란트 프로세스를 제공합니다. AXCELIS GSD 200 (AXCELIS GSD 200) 은 강력한 이온 소스를 사용하여 도펀트를 상대적으로 높은 제어 정도의 기판 재료에 도입합니다. 이것 은 도펀트 (dopant) 가 필요 한 정확도 와 기판 층 의 원하는 비율 로 증착 되도록 한다. EATON NOVA GSD 200은 이온 소스를 빠르게 증가시켜 빠르고 일관된 임플란트 용량을 허용하는 "DSI (Direct Substrate Increase)" 기술을 통해 최고의 자동화 및 비용 효율성을 위해 제작되었습니다. GSD 200의 고급 장비는 이온 빔 전류를 모니터링하여 정확하고 정확한 용량 제어를 지원합니다. 이 "시스템 '은 가장 높은 수준 의" 이온' 을 가진 여러 가지 기판 두께 를 가장 많은 수 의 기판 으로 처리 하도록 설계 되었다. EATON NOVA/AXCELIS GSD 200은 수명이 긴 안정적이고 견고한 장치입니다. 그것 은 "이온 '원 을 정확 하게 제어 하고 두께 에 관계 없이 기판 위 에 일관성 있는" 빔' 을 보장 하도록 설계 되었다. 또한, 특허를받은 플럭스 모니터링 머신 (flux monitoring machine) 은 기판 표면의 플라즈마 청소로 최적의 성능을 가능하게한다. 고품질 스퍼터링 (Sputtering) 은 기질의 고유 산화물을 청소하고, 층을 도입 중인 이온의 방울에 수용하게한다. AXCELIS GSD 200 도구의 물리적 구성은 최첨단 설계를 특징으로합니다. 특허를받은 디스크 모양의 링 소스 기술, 높은 이온 전류를위한 강력하고 강력한 전자 건, 임플란팅 빔의 방위각 스캔 (azimuthal scans) 및 수직 프로파일 (vertical profile) 형태의 고급 x- 레이 진단, 그리고 정확성을 보장하기 위해 일련의 고급 제어 시스템. EATON NOVA GSD 200은 최대 8 개의 이온을 동시에 이식할 수 있으며, 프로파일링 충실도를 보장하기 위해 정확한 정렬을 제공합니다. 전반적으로, GSD 200은 반도체 업계에서 가장 정확하고 비용 효율적인 임플란트 (implant) 프로세스를 제공하도록 설계된 프리미엄 품질 이식 자산입니다. 첨단 이온 소스 (advanced ion source), 다양한 기판 두께, 일관된 빔 제어 (consistent beam control) 가 결합하여 임플란테이션 프로세스에 이상적인 선택이됩니다. EATON NOVA/AXCELIS GSD 200의 최첨단 디자인과 수명이 길어 생산 라인의 중요한 자산입니다.