판매용 중고 EATON NOVA / AXCELIS GSD 200 #9262469

EATON NOVA/AXCELIS GSD 200은 반도체 생산 시설에 사용하도록 설계된 고급 이온 임플랜터입니다. 이 장비는 다양한 공정에서 사용할 수 있도록 고에너지, 저에너지, 초저에너지 (초저에너지) 이온의 고품질, 신뢰성 있는 임플란트를 제공할 수 있습니다. 이 "시스템 '은 더욱 정확 하고 정밀 하기 때문 에" 반도체' 기판 과 회로 의 이온 이식 에 특히 효과적 이다. AXCELIS GSD 200 에는 강력한 이온 모니터가 장착되어 있어 이온 용량, 프로파일, 기울기 매개 변수를 실시간으로 모니터링할 수 있습니다. 이 모니터는 임플란트 (Implant) 정밀도 및 정확도를 보장하기 위해 대상 용량 (Target Dose) 및 전체 용량 프로파일 (Dosage Profile) 의 정확한 판독값을 제공합니다. 이튼 노바 GSD 200 (EATON NOVA GSD 200) 은 또한 진공 환경에서 기질의 가열 또는 이온 이식 (ion implantation) 을 수행 할 수 있도록 진공 장치를 포함하여 기계의 정확성과 성능을 더욱 보장합니다. 또한, GSD 200은 이온 이식 프로세스의 일부로 고해상도 이미징 기능을 사용합니다. 이 이미징을 통해 사용자는 임플란트 (implantation) 프로세스의 진행 상황을 시각화하여 임플란트 (implant) 매개변수와 특정 애플리케이션에 대해 최적화된 이온을 보다 효과적으로 제어할 수 있습니다. 이 도구에는 다양한 고급 안전 기능 (Advanced Safety Features) 이 있어 이온 임플란테이션과 관련된 위험으로부터 사용자와 장치 자체를 모두 보호할 수 있습니다. 전반적으로 EATON NOVA/AXCELIS GSD 200은 반도체 생산 시설에 사용하도록 설계된 고급적이고 신뢰할 수있는 이온 임플랜터 및 모니터입니다. 그것 은 "에너지 '가 높은" 이온' 과 "에너지 '가 낮은" 이온' 의 정확 한 임플란트 를 제어 된 진공 환경 에서 제공 하며 정확 하게 모니터링 할 수 있는 능력 을 가지고 있다. 또한 고해상도 이미징 기능을 통해 임플란테이션 프로세스의 정확성을 보장합니다. 이 제품은 모든 반도체 생산 시설에 적합한 툴이며, 다양한 이온 임플란테이션 (ion implantation) 애플리케이션에 필요한 정확성과 측정 도구를 제공합니다.