판매용 중고 EATON NOVA / AXCELIS GSD 200 #9173588
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판매
ID: 9173588
웨이퍼 크기: 6"
빈티지: 1992
Ion implanter, 6"
Energy 80kv or 160kv: 180 kV
15 ma system
Control system:
Sun workstation type: SPARC 5
Cell controller CPU PCB type: VME 177
Monitor size and type: LCD
Transformer: Oil
Device interface:
Ground electronic Dl rack: Yes, 1163960
Disk vac DI rack: Yes
Terminal beatline Dl rack: Yes, 1163962
Gas control rack: Yes
Source control DI rack: Yes
Dose control DI rack: Yes
Terminal electronic Dl rack: Yes
Main tower distribution DI rack: Yes
Terminal power distribution Dl rack: Yes
Ground power distribution DI rack: Yes
Disk thermal couple Dl rack: Yes, 1187280
Loadlock control DI rack: Yes, 1176551
Gas box:
Source cabinet: Yes
Gas lines (3 or 4 line): Non module
Gas type: HP or SDS
Line 1 HP (Ar) 1510A
Line 2 SDS (BF3) 8162
Line 3 HP (AsH3) 1501A
Line 4 SDS (PH3) 8162
Source / Terminal:
Source head type or P/N: Bernus
Extraction electrode type or P/N: 1153600, Old type
Extraction power supply P/N: OL8000HV unit 100W
Source rough pump type: No
Source Hi-Vac pump type: Diffusion pump
Beam guide P/N: Yes, Old type
P8 Turbo pump type: No
Dual vaporizer: No
Filament power supply: Yes
Vaporizer power supply: Yes
Arc power supply: Yes
Source suppression power supply: Yes
Analyzer magnet power supply: Yes
Source magnet power supply: Yes
Quadruple power supply: No
Quadrapole assy: No
Resolving / Endstation:
Post accel suppression power supply: Yes, -5 kV,100mA
Post accel high voltage power type: OL8000/104/05
Post accel electrode assy: Yes, 1165340
Post accel tube assy: Yes
Electron shower: Yes, E-show / Old type
Shower power supply P/N: Yes, 1168391
Electron shower gas bleed assy: No
Whole enclosure door: Yes
Wafer transfer controller type P/N: Old type-ASYNC
Robot controller type or P/N: Old type-ASYNC
Loadlock controller type or P/N: Yes, 1176551
Rotary controller type or P/N: 1169071, Belt type
Y-Scan controller type or P/N: Yes, 1169081
Gyro controller type or P/N: Old type-ASYNC, 1168391
Cryo pump P2 / On board: CTI Torr 8
Cryo pump P3 / On board: CTI Torr 10
Cryo pump compressor type: 8200 9600
Disk chiller type: Yes, HX-150
RP2 for P2 / P3 / Beamline / Process / Loadlock: No
RP3 for sliding seal: No
P9 Cryo pump / Compressor: No
Wafer buffer: No
Belt type
Current:
(2) HP
(2) SDS
Disk size: 6" (old type) 1173936
Manual / Drawing: No
Power requirements: 208 V, 50/60 Hz, 3-phase, 50 kVA
Currently de-installed and warehoused
1992 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS GSD 200은 반도체 산업을 위해 설계된 무거운 이온 임플랜터 및 모니터입니다. 실리콘, 실리카, 게르마늄, 주석, 텅스텐, 갈륨, 알루미늄 등 다양한 물질에 이온을 이식하는 데 사용됩니다. 이 장치에는 가변 에너지 이온 빔 전류 (최대 400 ° A) 와 넓은 영역 X-Y 스캐너 (X-Y 스캐너) 가있는 이온 소스가 포함되어 빔 스팟의 정확한 위치를 지정합니다. 또한 정확한 임플랜테이션을 위해 고해상도, 고속 제어 장비를 갖추고 있습니다. AXCELIS GSD 200 은 다양한 기판에 이온 이식 (ion implantation) 을 수행할 수 있어 매우 작고 복잡한 장치 구조의 생산에 이상적입니다. 이 장치는 몇 마이크로 미터에서 수 밀리미터 크기의 장치를 처리 할 수 있습니다. 로우프로세스 변동 공차 (lowprocess-variation tolerance) 와 일정한 균일성 (unifority) 을 갖춘 하이엔드 성능을 제공하여 고도로 설계된 장치의 안정적인 생산에 적합합니다. 이 장치에는 저압 임플란테이션 (implantation) 요구 사항을 충족시키기 위해 완전 자동화 진공 시스템이 장착되어 있습니다. 안전 추가를 위해 장치에는 안전 연동이 내장되어 있습니다. 또한 이식 중 챔버의 입자에 대한 온라인 분석을위한 APMS (Automatic Particle Monitoring Unit) 에 의존합니다. EATON NOVA GSD 200은 사용자에게 사용 편이성을 제공하도록 설계되었습니다. 직관적인 그래픽 사용자 인터페이스와 다중 레벨 제한 액세스 관리가 제공됩니다. 컨트롤 설정 및 기타 매개변수는 터치 스크린 인터페이스를 통해 직접 조정할 수 있습니다. 임플란테이션 외에도 GSD 200은 현장 내 모니터 (in-situ monitor) 및 이식 웨이퍼 (wafered) 분석 기능도 제공합니다. 고급 웨이퍼 이미징 (wafer imaging) 기술이 적용되어 이온 이식 프로세스 전, 중, 후에 웨이퍼를 시각화할 수 있습니다. 이 장치에는 프로세스 매개변수 및 웨이퍼 성능에 대한 자세한 정보 (예: 경로 기록, 용량 스캔) 를 기록하는 최신 디지털 모니터링 머신도 있습니다. 이 데이터는 사용자가 프로세스 일시적 문제를 해결하고 최적화하는 데 사용할 수 있습니다. EATON NOVA/AXCELIS GSD 200은 복잡한 디자인의 고수율 생산을위한 선택입니다. 고급기술의 요구 사항을 충족하는 반도체 (반도체) 기기를 생산할 수 있는 안정적인 플랫폼을 제공한다.
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