판매용 중고 EATON NOVA / AXCELIS GSD 200 HE #293829786

EATON NOVA/AXCELIS GSD 200 HE Ion Implanter & Monitor는 반도체 산업의 까다로운 요구를 충족시키기 위해 설계된 고급 임플랜터 장비입니다. 붕소, 인, 비소, 산소 등 다양한 이온 종을 이식 할 수 있습니다. 이 시스템은 실리콘 웨이퍼 (silicon wafer) 및 폴리 실리콘 (polysilicon) 과 같은 다른 화합물을 포함한 다양한 물질에 임플란트하는 데 사용될 수있다. 고용량 (high dose rate) 과 정밀한 빔 제어 시스템으로 인해 높은 처리량을 제공합니다. 이 장치에는 ion 빔의 매개변수를 모니터링하고 임플랜터의 성능을 최적화하는 최첨단 (state-of-the-art) 이온 센서가 여러 개 있습니다. 이렇게 하면 매개변수가 가장 높은 품질 (implantation) 에 사용할 수 있는 범위 내에 있게 됩니다. 각종 "컨트롤 '" 시스템' 은 원하는 결과 를 위하여 적절 한 용량 을 유지 하는 데 도움 이 된다. 이 기계는 수동 제어 및 자동 기기 작업도 모두 제공합니다. AXCELIS GSD 200 HE에는 다양한 안전 기능이 있습니다. 이러한 기능은 이온 빔 (ion beam) 및 프로세스 환경 (process environment) 이 운영자에게 안전하도록 합니다. '장애 모니터링 (fault monitoring)' 툴이 내장되어 있어 잠재적으로 위험한 상태가 감지되면 사용자에게 알립니다. 또한, 자산에는 공정 챔버 (process chamber) 에서 의도하지 않은 물질의 방출을 방지하는 데 도움이되는 폭발 방지 진공 격리 챔버 (explosion-proof vacuum isolation chamber) 가 장착되어 있습니다. EATON NOVA GSD 200 HE는 반도체 산업의 비용을 줄이고 효율성을 높이기 위해 설계되었습니다. 혁신적인 이온 모니터 (ion-monitor) 및 제어 시스템 (control system) 을 통해 높은 용량과 높은 정확도로 더 높은 용량에 도달 할 수 있습니다. 또한, 고속 냉각 모델은 이식 후 웨이퍼가 빠르고 균등하게 냉각되고, 장치 가동 중지 시간을 줄이고, 더 높은 웨이퍼 수율을 허용합니다. 이 장비는 또한 폐기물을 줄이고 오염을 최소화하여 더 높은 수율, 더 효율적인 작동을 초래하도록 설계되었습니다. 전반적으로, GSD 200 HE는 최신 기술과 검증된 신뢰성을 결합한 고급 이온 임플란터 (ion implanter) 로, 반도체 산업에 탁월한 임플란테이션 성능을 제공 할 수 있습니다. 정밀 제어 시스템 (precision control system), 고급 안전 기능 (advanced safety features) 및 효율적인 작동을 통해 모든 반도체 어플리케이션에 완벽한 선택이 가능합니다.