판매용 중고 EATON NOVA / AXCELIS Disk for GSD #9242500

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ID: 9242500
웨이퍼 크기: 8"
8".
AXCELIS Disk (AXCELIS Disk) 는 글로벌 반도체 제작 작업에 사용할 수 있는 고급 이온 임플랜터 및 모니터 장비입니다. 이 최첨단 시스템은 첨단 기술을 활용하여 정확하고 정확한 이식 프로세스를 제공합니다. 이 유연한 단위는 광대 한 공정 영역에서 정밀한 금속 및 비금속 이온 임플란테이션을 달성하기위한 필수 도구입니다. 이 기계는 맞춤형 빔 에너지 레벨 (beam energy level), 임플란테이션 시간 (implantation time), 지리적 영역 (geographical region) 을 포함한 다양한 기능을 제공하며, 안정적인 데이터 수집 및 품질 보증을 통해 성공을 이식합니다. 이 디스크는 이온 임플란터 고객을 위한 일체형 솔루션입니다. 여기에는 신뢰할 수 있는 전원 공급 장치, 다중 영역 모니터 (Multi-Zone Monitor), 간편한 설치 및 리소스 할당을 위한 필드 컨트롤러 (Field Controller) 가 포함됩니다. EATON NOVA Disk는 글로벌, 대규모 반도체 제조를 위한 고급 솔루션입니다. 이 제품은 다운타임을 최소화하면서 광범위한 프로세스 범위에 걸쳐 재료를 빠르고, 안정적이며, 일관되게 이식할 수 있도록 설계되었습니다. 디스크 (Disk) 는 정확한 이식 (implantation) 을 위한 상세한 모니터 데이터 수집, 더 넓은 정밀도를 위한 맞춤형 이식 시간, 안정적인 전원 공급 등 다양한 기능을 호스팅합니다. 또한이 도구는 여러 단계 임플란테이션을위한 여러 개의 "영역 (zone)" 과 각 영역 내에서 높은 균일성을 갖춘 대형 챔버를 갖추고 있습니다. EATON NOVA/AXCELIS Disk는 운영 매개변수를 제어하고 빔을 모니터링하기 위해 사용하기 쉬운 GUI (Graphical User Interface) 를 제공합니다. 이 간단한 인터페이스는 이식 프로세스를 간소화합니다. 또한 사용자는 빔 전류 (beam current), 에너지 (energy), 기울기 (tilt), 균일성 (uniformity) 및 임플란트 (implants per second) 와 같은 다양한 사용자 정의 가능한 매개변수에서 전체 이식 프로세스의 전체 제어 및 정밀도에 이르기까지 다양한 이점을 얻을 수 있습니다. AXCELIS 는 디스크 외에도, 고객에게 글로벌 서비스와 지원을 제공합니다. 고도로 숙련된 전문가는 탁월한 서비스와 지원을 제공하여 신속한 문제 해결, 탁월한 운영 효율성 (Operating Efficiency) 을 보장합니다. 오랜 경험과 능률적인 서비스 프로그램을 통해 고객은 EATON NOVA Disk 를 신뢰하여 효율적이고 강력한 이온 임플랜테이션을 수행할 수 있습니다. 전반적으로 EATON NOVA/AXCELIS Disk는 대규모 글로벌 이온 임플란테이션을 위한 고급 솔루션입니다. 금속성 물질과 비금속성 물질을 반도체 소자에 정확하게 이식하는 데 이상적입니다. 사용하기 쉬운 GUI, 사용자 지정 가능 매개변수, 성능 최적화를 위한 안정적인 서비스 지원을 제공합니다. AXCELIS Disk 를 사용하면 이온 임플란터 (ion implanter) 고객이 뛰어난 정밀도를 달성하고 나노미터 수준을 달성할 수 있습니다.
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