판매용 중고 AXCELIS / FUSION M 200 PCU #9314155

AXCELIS/FUSION M 200 PCU 는 웨이퍼 프로세싱 내에서 이동을 간소화하고 프로세스를 자동화하도록 설계된 최강의 노출 장비입니다. 이 시스템은 경쟁 시스템보다 강력한 오버레이 제어를 유지할 수 있는 AEM (Advanced Exposure Module) 을 갖추고 있습니다. 이 첨단 기술을 통해 패턴을 민감하게 스캔할 수 있으며, 생성된 패턴의 크기와 모양을 정확하게 변경할 수 있습니다. 이 장치는 노출 중 정밀도를 향상시키기 위해 3 축 스테이지도 갖추고 있습니다. 이 머신에는 여러 칩에서 패턴을 신속하게 검색하는 데 사용되는 자세한 웨이퍼 이미지를 제공하는 이미지 (Image) 스캔 기술이 포함되어 있습니다. 이 기술은 또한 높은 정확도로 결함을 감지하여 전반적인 생산성 (productivity) 을 희생시키지 않고 높은 수율을 보장할 수 있습니다. 이 도구에는 빠른 반복성을 갖춘 고정밀 패턴 위치를 제공하는 최첨단 DJ-FIB (Dual Jet Focused Ion Beam) 도 포함되어 있습니다. FUSION M200PCU는 또한 탁월한 속도와 효율성을 제공하는 하이엔드 자동화를 제공합니다. 자산은 저항, 크롬, 금 등 다양한 유형의 노출을 수행 할 수 있습니다. 이 모델은 또한 최첨단 자동화 (state-of-the-art automation) 를 통합하여 프로세스 시간을 간소화하여 인건비를 대폭 절감하고 인력을 확보하여 다른 작업에 집중할 수 있습니다. 마지막으로 AXCELIS M200 PCU 는 향상된 오염 제어 기능을 제공합니다. 혐기성 공정 격리를 통해, 장비는 전체 웨이퍼 성능에 영향을 줄 수있는 오염 물질과 입자 축적을 차단합니다. 이 시스템은 또한 오염 물질의 전체 제거를위한 포괄적 인 이온 스크러빙을 포함합니다. 결국 FUSION M 200 PCU는 고급 자동화, 정확한 이동 및 뛰어난 오염 제어를 제공합니다. 최첨단 이미징 기술을 통해 이 장치는 빠른 속도의 웨이퍼 (Wafer) 처리 작업에 이상적이며, 상세한 분석과 일관된 결과를 제공합니다. 향상된 오버레이 제어 (overlay control), 정밀 패턴 포지셔닝 (precision pattern positioning) 및 향상된 프로세스 시간 (process time) 을 갖춘 이 머신은 웨이퍼 처리 효율성을 향상시키는 혁신적인 솔루션입니다.