판매용 중고 AXCELIS / FUSION M 200 PCU #9095387

AXCELIS/FUSION M 200 PCU는 최첨단 반도체 장치 기술을 위한 최고 정확도, 최고 품질의 EUV 마스킹을 제공하는 완벽한 구성 가능한 반도체 웨이퍼 노출 장비입니다. 8 ", 12" 및 최대 16 "웨이퍼 크기를 위해 설계된 이 시스템은 부드러운 전송 모션을 갖춘 혁신적인 대형 마스크 테이블을 갖추고 있으며, 전례없는 안정성과 마스크 작문의 정확성을 제공합니다. FUSION M200PCU는 하이엔드 마스크 처리량 및 차세대 캘리브레이션 기능을 통해 마스크 제작 생산성을 가속화할 수 있도록 설계되었습니다. x, y, theta, z 등 4 개의 스캔 축을 갖추고 있어 마스크 쓰기 정확도와 안정성이 향상되었습니다. PCU를 사용하면 사용자가 선택한 노출 필드와 사용자 지정 가능한 스캔 속도 (scan velocity), 해상도 (resolution) 를 통한 빠른 최적화 및 글로벌 오버레이 (overlay) 수정이 가능하므로 정밀 오버레이 정렬이 가능합니다. AXCELIS M200 PCU는 사용자에게 친숙한 직관적인 그래픽 사용자 인터페이스를 제공합니다. 통합 컨트롤러에는 이미지 품질 분석, Adaptive Correction, Optimization, 장치 기능 제어 향상 등의 소프트웨어 툴이 포함되어 있습니다. 이 기계는 또한 ASTA 마스크 검사 도구 (ASTA mask-inspection tool) 와 통합되어 높은 정확도와 제어를 통해 모든 노출 된 마스크 필드를 모니터링, 측정, 수정할 수 있습니다. PCU 도구는 뛰어난 광학 빔 안정성과 전력 일치 기능을 갖춘 고성능 레이저 조명 광학 자산을 사용합니다. 또한 대형 필드, 멀티 슬릿 빔 전달 장치 (multi-slit beam delivery unit) 를 갖추고 전체 마스크 필드에 균일 한 조명을 허용합니다. 통합 동적 빔 셰이핑 모듈은 복잡한 마스크 구조 기능을 우수하고 날카롭게 재생산합니다. 최대 0.25um 해상도의 패턴 여행을 위해 노출 스캐너 액세서리 (옵션) 를 통합 할 수 있습니다. M-200 PCU에는 최적화된 프로세스 제어를 위해 고정밀도, 열 제어, 마스크 및 웨이퍼 스테이지 모델이 장착되어 있습니다. 이 장비는 또한 오염을 최소화하기위한 펄스 질소 캐비닛 (pulsed nitrogen cabain), 노출 과정 전반에 걸쳐 높은 안정성을 제공하는 고성능 기계적 단계, 먼지의 잠재적 인 해로운 영향을 제거하는 공기 정화 시스템 (air purification system) 을 갖추고 있습니다. AXCELIS/FUSION M-200 PCU 는 다용도가 높은 장치로서, 뛰어난 수준의 마스크 (처리량) 를 생산할 수 있으며 최고의 정확성, 균일성, 프로세스 제어 기능을 제공합니다. 가장 진보적이고 까다로운 반도체 마스킹 (masking) 애플리케이션에 이상적인 솔루션이다.