판매용 중고 AXCELIS / FUSION M 150PCU #9391701

AXCELIS / FUSION M 150PCU
ID: 9391701
Lithography systems.
AXCELIS/FUSION M 150PCU는 반도체 제조 산업을 위해 설계된 최첨단 노출 장비입니다. 고급형 광학 부품 (Optical Component) 과 고급 스캐닝 (Scanning) 기능을 활용하여 복잡한 반도체 장치 제조에 뛰어난 해상도와 정밀도를 제공합니다. 시스템은 렌즈 어셈블리, 스캐너, 광원, 노출 제어 및 웨이퍼 추적 구성 요소로 구성됩니다. 이 장치와 함께 제공되는 렌즈 어셈블리 (lens assembly) 는 낮은 정적 난시, 우수한 색상 교정, 고해상도를 가진 최적화된 아크로매트입니다. 유효 조리개는 200mm, 이중 광 경로는 최대 201 mm 총 투영 면적을 제공 할 수 있습니다. 스캐너는 멀티 축 스캔 암, 고품질 슬릿 스캔 카메라 및 IR 검출기로 구성됩니다. 고급 기능을 통해 다양한 노출 수준 (exposure level) 과 웨이퍼 위치 (wafer location) 를 신속하게 스캐닝 및 습득할 수 있습니다. 노출 컨트롤에는 노출 시간, 용량, 패터 크기, 스캔 속도를 정확하게 제어 할 수 있는 조정 가능한 설정이 있습니다. 또한, 기계에는 시간당 최대 180 개의 웨이퍼를 추적 할 수있는 고속 웨이퍼 추적 도구 (0.5 mm) 가 장착되어 있습니다. 이 자산은 또한 시간당 8,000 개 이상의 웨이퍼를 노출 할 수있는 고출력 광원을 통합합니다. 광원은 프로그래밍 가능한 방출 장치 (emitter) 와 파장 (wavelength) 및 방출 유형 (type) 에 대한 조정 가능한 설정을 가진 반사체로 구성됩니다. 이를 통해 반도체 장치의 최적의 노출이 가능합니다. 마지막으로, 모델은 또한 온도 범위가 4-40ß C 인 웨이퍼의 정확한 온도 조절이 가능합니다. 따라서 노출 과정이 균일하여 열 구배 (thermal gradient) 로 인한 결함이 제거됩니다. FUSION M 150PCU (FUSION M 150PCU) 는 반도체 업계를 위한 강력한 툴로서, 기업에서 보다 복잡하고 고품질의 장치를 제조할 수 있어 정확성과 효율성이 뛰어납니다. 강력한 디자인과 컴팩트 폼 팩터 (Compact Form Factor) 가 결합된 고급 기능으로, 오늘날 시장에서 가장 안정적이고 다양한 노출 시스템 중 하나입니다.
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