판매용 중고 AXCELIS / FUSION M 150PC #9232206

AXCELIS/FUSION M 150PC는 고급 리소그래피 응용 프로그램을 위해 만들어진 고급 노출 장비입니다. 이 시스템에는 고유한 5축 스테이지 유닛이 장착되어 있어 최상위 성능을 위해 정확하고 정확하게 정렬할 수 있습니다 (영문). 시스템의 전원은 사용자에게 광범위한 옵션을 제공합니다. 이 도구는 순수한 아르곤 플루오 라이드, 248nm 파장의 광학 대역폭 소스, 365nm 파장의 i 라인 소스의 세 가지 소스 구성을 사용합니다. 아르곤 플루오 라이드 레이저 (argon fluoride laser) 는 전체 사진 패턴 영역에 대해 높은 처리량, 이미지 충실도 및 균일성을 제공하는 반면, 아이라인 소스는 폴리 이미 드 감광 필름에 이상적인 선택입니다. 이 자산은 또한 고급 Collimated Overlay Imaging Detection Technology를 특징으로하며, 이는 정확도와 정확도를 높여 직접 가장자리 정렬을 제공합니다. 또한 Collimated Overlay Imaging Detection 기술은 레티클과 웨이퍼의 실시간 분석, 모니터링 및 도량형을 단일 주기로 허용합니다. 또한 고급 전원 보정 모듈 (Power Compensation Module) 은 저항의 처리량, 초점 및 중요 크기를 향상시킵니다. 이 모델은 또한 정교한 컴퓨팅 플랫폼을 통합하여 마스크 ID (Mask ID), 노출 (Exposures), 용량 (Dose) 및 정렬 (Align) 과 같은 매개변수를 직접 제어 할 수 있습니다. 또한 컴퓨팅 플랫폼 (Computing Platform) 을 사용하면 자체 레시피 설정을 사용자 정의하고 데이터를 분석할 수 있으므로 추가 프로그램이 필요하지 않습니다. FUSION M150PC 의 출처 는 "마스크 '," 웨이퍼' 또는 "레티클 '이 장비 에 적재 되었을 때 자동 탐지 할 수 있을 만큼 지능적 이다. 더욱이, 이 시스템에는 긴급 셧오프 (Emergency Shoff) 와 같은 최첨단 안전 기능 (Burn and Electrical Safety Mechanism) 이 여러 개 장착되어 있습니다. AXCELIS M 150 PC는 강력하고 신뢰할 수 있는 노출 장치로서, 다양한 석판화 (lithography) 및 나노 (nanofabrication) 어플리케이션에서 최고 수준의 성능을 제공할 수 있습니다. 사용자 친화적인 기능과 고급 (Advanced) 기능을 통해 사용자는 최소한의 노력으로 최고 수준의 이미지와 패턴을 생성할 수 있습니다. 이 기계는 nanoelectronics, semiconductor, micro optics 및 photonics와 같은 산업 및 연구 응용 분야에 적합합니다.