판매용 중고 AXCELIS / FUSION LHP10 #293777983

AXCELIS/FUSION LHP10은 최첨단 노출 장비로, 반도체 제조 산업의 기술과 혁신의 정점을 나타냅니다. FUSION LHP10은 이온 이온 이식 및 기타 반도체 처리 솔루션의 글로벌 리더 인 FUSION Technologies (FUSION Technologies) 가 설계하고 개발한 것으로, 반도체 리소그래피에서 탁월한 성능과 높은 정밀도를 제공하는 고급 기능과 기능을 결합한 것입니다. AXCELIS LHP10 코어에는 고급 광원 시스템 (Advanced Light Source System) 이 있으며, 이는 최첨단 기술을 사용하여 반도체 기판에서 포토 esist 레이어를 고도로 조명되고 균일 한 조명을 제공합니다. 이를 통해 포토 마스크 (photomask) 에 의해 정의 된 패턴이 최소한의 왜곡 또는 수차로 웨이퍼 (wafer) 로 정확하게 전달되어 고해상도와 고해상도 (fidelity) 패턴이 생성됩니다. LHP10은 초고해상도 이미징에 최적화된 정교한 프로젝션 렌즈 장치 (projection lens unit) 를 갖추고 있어, 기계가 서브 미크론 해상도와 하이 패턴 충실도를 달성할 수 있습니다. 렌즈 (lens) 도구는 광학 수차 및 왜곡을 최소화하여 투사된 이미지가 의도한 패턴 레이아웃에 선명하고, 선명하고, 정확하게 정렬되도록 합니다. AXCELIS/FUSION LHP10 은 고정밀도 스테이지 자산을 통합하여 노출 과정에서 웨이퍼를 정확하게 포지셔닝 및 이동할 수 있습니다. 첨단 모션 컨트롤 기술 (Advanced Motion Control Technology) 은 나노미터 (Sub-nanometer) 포지셔닝 정확도와 높은 처리량을 제공하여 노출 프로세스를 효율적이고 정확하게 완료합니다. FUSION LHP10 (LHP10) 은 탁월한 이미징 및 포지셔닝 기능과 더불어 고급 자동화/제어 기능을 갖추고 있어, 노출 프로세스를 간소화하고 인적 오류 (human error) 를 줄일 수 있습니다. 이 모델은 마스크 정렬 (mask alignment), 노출 용량 제어 (exposure dose control) 및 프로세스 모니터링 (process monitoring) 을 포함하여 완전하게 자동화된 작동이 가능하며, 반도체 제조업체가 석판화 작업에서 높은 생산성과 신뢰성을 얻을 수 있습니다. AXCELIS LHP10 은 최첨단 노드 기술 (예: 7nm 이상) 을 비롯한 고급 반도체 제조 프로세스의 까다로운 요구 사항을 충족할 수 있도록 설계되었습니다. 이 장비에는 피폭량 (Exposure Dose), 초점 (Focus), 정렬 (Alignment) 과 같은 중요한 매개변수를 완벽하게 제어할 수 있는 고급 프로세스 제어 기능이 장착되어 있어, 패턴 처리 과정이 최고의 수율과 품질에 최적화되어 있습니다. 또한, LHP10은 확장성과 유연성을 위해 설계되었으며, 반도체 제조업체는 다양한 프로세스 요구사항과 운영 볼륨에 맞게 시스템을 조정할 수 있습니다. 이 장치는 다양한 포토마스크 크기와 유형 (type) 과 호환되며, 기존 제조 라인에 쉽게 통합되거나, 특정 응용 프로그램에 맞게 사용자 정의할 수 있습니다. 전반적으로 AXCELIS/FUSION LHP10 은 최첨단 기술, 고정밀도, 고급 자동화 기능을 결합한 최첨단 노출 머신으로 반도체 제조업체가 석판화 (lithography) 프로세스에서 최고 수준의 성능과 생산성을 달성할 수 있도록 지원합니다. 첨단 기능과 기능을 갖춘 FUSION LHP10 은 차세대 반도체 (semiconductor) 혁신을 주도하고 첨단 전자 기기와 기술을 개발할 수 있도록 지원합니다.