판매용 중고 AXCELIS / FUSION LC-6 #93376

AXCELIS/FUSION LC-6은 오늘날 칩 제조 산업의 가장 복잡한 석판화 요구 사항을 위해 설계된 고정밀, 고생산성 노출 장비입니다. FUSION LC-6은 Deep UV photolithography, E-Beam 리소그래피 및 직접 쓰기 프로세스에 사용될 수 있으며, 사용자에게 탁월한 정확성과 유연성을 제공합니다. 사용자 지정 이미징 모듈을 갖춘 AXCELIS LC-6 은 다양한 프로세스/노출 설정에 걸쳐 정확한 성능을 제공합니다. 이 시스템은 22 nm에서 1 핵 포토 마스크 결함이 있으며, 다중 노출 헤드를 동기화하여 매우 정밀한 이성질체 어레이를 달성 할 수 있습니다. LC-6 은 여러 가지 첨단 기술을 탑재하여, 정확하고 반복 가능한 결과를 보장합니다. 여기에는 전체 시야에서 균일성을 보장하기 위해 독점적 인 아키텍처를 갖춘 통일성 모듈 (Uniformity Module) 과 왜곡에 맞게 조정하기 위해 독점적 인 Wavefront Deviation 알고리즘이 포함됩니다. 이 장치에는 백사이드 이미지의 정확하고 파괴적이지 않은 분석을 위해 FACSEL 어레이 도구가 장착되어 있습니다. AXCELIS/FUSION LC-6은 프로세스 허용 한도와 재현성을 위해 설계되었습니다. 특정 응용 프로그램에 대해 다양한 프로세스 설정을 조정할 수 있으며, 결함 모니터링 (Disect Monitoring) 및 노출 후 프로세스 분석 (Post-Exposure Process Analysis) 을 통해 설정을 세밀하게 조정할 수 있습니다. 환경 변화에 대해서도 매개변수를 조정할 수 있으며, 전체 노출 과정에서 실시간 온도 및 습도 모니터링 (options for real-time temperature and humidity monitoring) 옵션을 사용할 수 있습니다. FUSION LC-6의 견고한 옵티컬 설계는 장기적인 성능을 보장하며, DOE-free 설계를 통해 진동을 최소화하고, 선형성을 향상시키며, 이미지 아티팩트를 제거해 줍니다. 또한 Optic 자동 청소, 무정비 드라이브 (Maintenance-Free Drive), 일상적인 작업을 위한 완벽한 원격 소프트웨어 지원을 통해 유지 보수 작업을 최소화할 수 있습니다. 전반적으로 AXCELIS LC-6 는 칩 제조 업계의 가장 까다로운 요구 사항을 충족하도록 설계된 첨단 고정밀도 (high-precision) 노출 툴입니다. 이 자산의 견고하고, 기능이 풍부한 설계를 통해 매우 정확하고, 반복 가능한 결과를 얻을 수 있으며, 다양한 고급 기술을 통해 프로세스의 유연성과 재현성을 극대화할 수 있습니다.