판매용 중고 AXCELIS / FUSION K250 #9411431

AXCELIS/FUSION K250은 반도체 웨이퍼에서 광전자 응용 프로그램을 처리하기 위해 특별히 설계된 노출 장비입니다. 동급 최고의 성능을 제공하는 이 시스템은 더 뛰어난 Wafer 처리량과 탁월한 프로세스 제어를 제공합니다. 노출 장치 (Exposure Unit) 는 광전자 생산에서 다양한 어플리케이션을 위해 매우 정밀한 프로세스 제어 및 높은 처리량을 제공하도록 설계되었습니다. 고급 가변 소스 웨이퍼 처리 스테이션 (variable-source wafer handling station) 을 통해 높은 전력 효율과 일관된 노출을 제공합니다. 이 기계에는 높은 정확도로 웨이퍼에 패턴 된 영역을 노출시키기 위해 고급 광학 구성 요소를 갖춘 270 미크론 UV 빔 소스 (270 미크론 UV 빔 소스) 와 노출을 광학적으로 정확하게 정렬하기 위해 통합 된 사전 정렬 및 스캐너 (scanner) 가 포함됩니다. FUSION K250은 고전류 이온 빔 소스와 최대 700W 가속 전압 덕분에 뛰어난 웨이퍼 처리량을 제공합니다. 또한, 고급 부제품 격리 도구는 청소실 운영을 위해 탁월한 환경 보호를 보장합니다. 에셋은 또한 웨이퍼 로드 (wafer loading) 및 언로드 (unloading) 및 웨이퍼/마스크 정렬 (wafer/mask alignment) 에 대한 고급 조작 기능을 제공합니다. 인체 공학적 사용자 인터페이스는 실시간 피드백 (feedback), 직관적인 그래픽 인터페이스 (graphical interface) 및 모델 작동을 위한 단순화된 절차를 제공합니다. 또한, 장비의 고급 제어 기능은 최적의 노출 매개변수와 프로세스 안정성을 보장합니다. AXCELIS K250은 광전자 생산 요구 사항에 이상적인 솔루션입니다. 광범위한 광 전자 처리 어플리케이션을 위한 탁월한 프로세스 제어, 높은 처리량, 고급 조작 기능을 제공합니다 (영문). 첨단 기술, 사용자 친화적 인터페이스 (User-Friendly Interface) 와 함께 고성능 웨이퍼 처리 스테이션 (Wafer Handling Station) 은 광전자 생산을위한 최고의 노출 솔루션입니다.