판매용 중고 AXCELIS / FUSION F 300S #9309256

AXCELIS/FUSION F 300S 노출 장비는 반도체 장치 제조에 사용되는 고급 도구입니다. 첨단 광학 부품 (Optical Component) 을 채용한 고급 시스템으로, 마이크로미터 이하의 해상도로 소재를 매우 정확하게 노출시킬 수 있습니다. 이 장치는 프로젝터, 스캔 장치 (Scanning Unit), 다중 광원 (Multiple Light Source) 등 여러 가지 주요 구성 요소로 구성되어 있어 광범위한 노출 패턴을 만들 수 있습니다. 이 기계는 다양한 반도체 (semiconductor) 장치 유형과 호환되므로 제조업체를 위한 다용도 도구입니다. 프로젝터는 공구의 중심에 있으며, 최대 5kHz의 노출 표시등을 제공합니다. 프로젝터에는 자동화된 가변 조리개 에셋 (variable-aperture asset) 이 포함되어 있으므로 노출광의 크기를 정확하게 조정하여 작은 (small) 피쳐 크기를 노출할 수 있습니다. 프로젝터는 또한 PWM (Advanced Pulse Width Modulation) 기술을 사용하여 타겟에 대한 스팟 노출을 정확하게 제어합니다. 따라서 사용자가 기능 크기 해상도를 0.25 미크론까지 낮출 수 있습니다. 모델의 스캐닝 단위 (scanning unit) 를 사용하면 대상 내의 복잡한 모양에서 매우 정확한 노출 이동이 가능합니다. 피폭되는 조명의 움직임을 제어하는 역할을 맡아 피폭광의 '피폭광의' (exposure light) 를 매우 정확하게 배치할 수 있다. 스캐닝 장치에는 또한 피코 스피드 컨트롤러 (Pico Speed Controller) 가 포함되어 있으므로 빠르고 정확한 노출 이동이 가능하므로 다양한 칩 설계에서 작은 기능을 노출시킬 수 있습니다. 또한 FUSION F 300S는 여러 노출 소스의 빛을 혼합 할 수 있습니다. 이 기능을 통해 사용자는 노출 깊이 (Exposure Depth), 노출 속도 (Exposure Rate) 와 같은 노출 매개변수를 정확하게 조정할 수 있으며, 즉시 노출 표시등을 스왑 아웃하고 조정할 수 있습니다. 결국, AXCELIS F 300S 노출 장비는 반도체 장치 제조에 사용되는 엄청나게 발전된 도구입니다. 고급 옵틱 및 정교한 구성 요소를 통해 사용자는 최대 5kHz의 노출 속도로 서브 마이크로 미터 해상도 (sub-micrometer resolution) 를 달성 할 수 있습니다. 또한, 여러 소스에서 빛을 혼합하는 기능을 통해 사용자는 복잡한 노출 패턴 (exposure pattern) 을 만들기 위해 노출 매개변수를 빠르고 정확하게 조정할 수 있습니다.