판매용 중고 AXCELIS / FUSION DRS-10 / 12QN #293645766

AXCELIS/FUSION DRS-10/12QN은 광범위한 사진 분석 응용 프로그램을 가능하게하기 위해 개발 된 최첨단 노출 장비입니다. 이 시스템은 리토그래피 (lithography) 와 광학 컴포넌트 (optical component) 의 고유한 통합 플랫폼을 기반으로 제작되었으며, 광범위한 프로세스 지원 기술을 갖추고 있습니다. FUSION DRS-10/12QN은 Optic과 Motion Control의 최신 발전을 결합하여 독특한 양면 웨이퍼 노출을 위한 뛰어난 성능과 유연성을 제공합니다. 이 장치에는 다양한 웨이퍼 크기와 기판을 수용 할 수있는 gantry-mounted 스캔 머신이 포함되어 있습니다. 사용 가능한 쿼츠 망토 (quartz cloak) 어셈블리는 균일 한 스캐닝 프로세스 성능을 제공하며 수명 주기 성능이 향상됩니다. 고도로 반복 가능한 저소음 스캔 도구, 쿼츠 보호 사진 조정 단계 (quartz-protected photo adjustment stage) 및 자가 정렬 노출 후 단계 (self-aligning post exposure stage) 를 통해 정확한 위치 지정 및 등록이 가능합니다. 10nm 공정 가능 레이저 간섭계 (10nm process capable laser interferometer) 는 노출 전과 도중에 스캔 체인 위치를 모니터링하여이 등록의 정확성을 보장합니다. 고정밀도 레이저 스캐너 (Laser Scanner) 및 패턴 생성기 (Pattern Generator) 시스템은 전체 웨이퍼에 걸쳐 정확한 온도 조절과 뛰어난 균일성을 갖춘 패턴 충실도를 제공합니다. 고속 서보 응답 (fast servo response), 정확한 제어 (precise control) 및 정교한 소프트웨어 알고리즘이 결합되어 자산의 높은 처리량을 달성합니다. 이 모델에는 자동화된 광 정렬 장비 (Optical Alignment Equipment) 가 있습니다. 이 장비는 웨이퍼 크기에 걸쳐 매우 반복 가능한 정밀한 정렬을 위해 2 개의 자동 간섭계를 사용합니다. AXCELIS DRS-10/12QN은 우수한 셔터 도어 열 격리 시스템을 사용하여 매개변수의 정확한 온도 조절 및 반복 가능성을 보장합니다. 이 장치에는 원격 척 (chuck) 모니터링에서 고급 소프트 워처/레시피 개발 시스템에 이르기까지 다양한 옵션 구성 요소가 있습니다. 강력한 소프트웨어를 통해 사용자는 다양한 복잡한 광 (optical) 구성을 설계할 수 있습니다. 요약하면, DRS-10/12QN은 최첨단 양면 웨이퍼 노출 성능을 제공합니다. 다양한 고급 기능과 구성요소 (구성 요소) 는 탁월한 운영 유연성과 높은 처리량을 제공합니다. 통합 소프트웨어 패키지와 프로세스 지원 툴 (process-enabling tools) 은 모든 photolithography 응용 프로그램에 적합합니다.