판매용 중고 AXCELIS / FUSION 200 PCU #9231978

AXCELIS/FUSION 200 PCU는 반도체 처리에 사용하도록 설계된 노출 장비입니다. 고해상도 리소그래피, 포토리스 스트립, 활성화 및 에칭, 확산, 화학적 기계적 평면 화, 도량형 등 다양한 제작 프로세스에 사용될 수있는 고성능 시스템입니다. 이 장치는 노출 매개변수의 다목적 프로그래밍 가능성과 높은 정확성 및 노출 결과의 반복 성을 제공합니다. 이 기계는 또한 잔류 강도 변화를 최소화하면서, 뛰어난 패턴 배치 정확도와 높은 처리량을 제공합니다. 이 도구는 비구 광학 렌즈, 마스크 정렬 모델, 듀오 소스 조명 장비 (duo-source illumination equipment) 를 포함하는 고급 광학 자산을 통합합니다. 이것은 수차 감소, 웨이퍼 표면의 균일 한 조명을 통해 고해상도 이미징 정확도를 제공합니다. 이 시스템은 듀얼 스팟 (Dual-Spot) 과 균일 한 조명을 갖춘 분할 필드 이미징 (Split-Field Imaging) 을 갖추고 있어 높은 처리량으로 고해상도 이미징을 제공합니다. 또한, 이 장치에는 3 개의 프로그램 가능 노출 매개 변수가 포함되어 있으며, 이를 통해 사용자는 시스템을 대상 응용 프로그램 및 프로세스에 맞게 조정할 수 있습니다. 이 도구는 고급 컨트롤러로 구동되며, 이를 통해 자산을 정확하게 제어하고 모니터링할 수 있습니다. 컨트롤러는 자동 온도/습도 보상을 제공하여 운영자가 모델의 안정적인 환경을 유지할 수 있도록 합니다 (영문). 또한, 컨트롤러는 노출 기능 모서리 배치 정확도, 과도한 노출 kp 계수 및 용량 균일성을 위해 사용자 프로그래밍 가능한 매개변수를 통합합니다. 장비는 여러 미디어 (Media) 와 기술 (Technology) 로 작업할 수 있으며, 성능은 애플리케이션의 미디어와 요구 사항에 따라 최적화됩니다. 이 시스템은 온라인 진단 (Online Diagnostics) 및 낮은 수준의 유지 관리 (Low-Level Maintenance) 등 장치 안정성을 향상시키기 위한 고급 설계를 갖추고 있습니다. 이 시스템은 여러 가지 구성으로 제공되며, 특정 애플리케이션 요구 사항에 맞게 도구를 사용자 정의할 수 있습니다 (영문). 최적의 성능을 위해서는 전문적인 설치 및 정기 유지 관리가 권장됩니다. 또한 이 자산은 제조업체의 지침에 따라 작동해야 성능 및 신뢰성 (Optimal Performance and 안정성) 을 보장할 수 있습니다. 또한, 모델을 온도 및 습도 조절 환경에 저장하는 것이 필수적입니다. 적절한 사용으로 FUSION 200 PCU는 안정적이고 정확한 결과를 제공합니다.