판매용 중고 TEGAL Plasmaline #89914

TEGAL Plasmaline은 유전체 및 금속 층의 드라이 에칭에 사용되는 에치 및 애셔입니다. 고압 및 고온 아르곤-염소 가스 혼합물 (argon-chlorine gas mixture) 을 사용하여 작업 조각의 표면에서 특징을 에치하고 애셔합니다. 이 프로세스는 얕은 에칭과 깊은 에칭 모두에 사용될 수 있습니다. 또한, 애셔 (asher) 프로세스를 사용하여 로컬 지형을 제어할 수도 있습니다. 플라즈말린 에처/애셔에는 건식 에칭에 사용되는 2 개의 챔버가 있습니다. 첫 번째 챔버 (showerhead plenum) 는 쇼 어헤드 (showerhead) 를 통해 반응 챔버에 고압 ArCl 가스를 주입하여 가스의 균일 한 분포를 만듭니다. 반응 챔버의 압력과 온도는 ArCl 가스 혼합물의 압력과 동력에 의해 결정된다. 이어서, 에칭 공정은 반응 챔버에서 수행된다. 제 2 챔버 (second chamber) 는 에칭 과정에서 압력 상승을 제어하고 프로세스에 대한 추가 제어를 제공하는 안정화 챔버 (stabilization chamber) 이다. TEGAL Plasmaline은 압력, 온도 및 가스 흐름을 제어 할 수있는 완전 자동화 시스템입니다. 이를 통해 일관된 에칭 결과와 반복 가능성을 보장할 수 있습니다. 시스템의 제어는 etcher와 통합된 PLC (programmable logic controller) 를 사용하여 수행됩니다. 따라서 프로젝트의 필요에 따라 매개 변수를 쉽게 변경할 수 있습니다. 플라즈말린은 얕고 깊은 에치 응용 모두에 적합합니다. 에칭 과정은 이방성 (anisotropic) 으로, 다른 방향보다 일부 방향으로 더 빨리 에칭됩니다. 일반적으로, 에치 레이트 (etch rate) 는 플랫 서피스보다 피쳐의 코너 복사 모서리에서 더 빠릅니다. 이를 통해 날카로운 기능과 엄격한 공차를 달성 할 수 있습니다. TEGAL Plasmaline은 지역 지형 제어에 적합합니다. 애셔 (asher) 프로세스를 사용하여 장치 표면에서 재료를 균일하게 제거하여 로컬 지형을 변경할 수 있습니다. 이는 로컬 지형을 제어해야 하는 평면 (planarization) 및 기타 응용 프로그램에 유용합니다. 전반적으로, 플라즈말린 (Plasmaline) 은 신뢰할 수 있고 견고한 etcher/asher로, 다양한 에칭 및 로컬 지형 제어 응용 프로그램에서 일관되고 반복 가능한 결과를 제공 할 수 있습니다. 압력 (pressure), 온도 (temperation), 반응 시간 (reaction time) 과 같은 매개변수에 대한 제어를 통해 항상 최적의 결과를 얻을 수 있습니다.