판매용 중고 TEGAL 921 #293749181

TEGAL 921은 반도체 제조 공정에 사용되는 매우 다재다능하고 고급 etcher/asher 장비입니다. 처리량 및 반복성이 높은 기판의 정확하고 균일 한 플라즈마 (plasma) 처리를 제공하도록 설계되었습니다. 이 시스템은 집적 회로, MEMS 장치, 센서, 기타 마이크로일렉트로닉스 (microelectronics) 부품의 제작에 적합한 고급 기능과 기능을 갖추고 있습니다. 921 의 주요 특징 중 하나는 이중 챔버 (dual-chamber) 설계로, 여러 웨이퍼를 동시에 처리하고 생산성을 높입니다. 이 장치는 각각 자체 전원 공급 장치, 가스 배달기, 공정 제어 기능이 장착 된 2 개의 프로세싱 챔버로 구성됩니다. 이 구성을 통해 각 챔버에서 프로세스 매개변수 (process parameter) 를 독립적으로 제어할 수 있으며, 서로 다른 유형의 기판을 처리하거나 동시에 여러 프로세스 단계를 수행하는 데 유연성과 효율성을 제공합니다. TEGAL 921에는 에칭 및 애싱 프로세스를위한 반응성이 높은 플라즈마 환경을 생성하는 고출력 RF (radiofrequency) 플라즈마 소스가 장착되어 있습니다. RF 플라스마 소스는 다양한 가스 플라즈마 화학 물질을 생성 할 수 있으며, 금속, 산화물, 중합체 에칭 (etching of metal, oxides, polymer) 및 광저장제 및 유기 물질의 탈피를 포함한 광범위한 공정 기능을 가능하게한다. 플라즈마 소스는 특정 기판 재료 및 공정 요구사항에 대한 프로세스 조건을 최적화하여 높은 공정 선택도 (process selectivity) 와 균일성 (unifority) 을 보장하도록 조정할 수 있습니다. 이 툴은 고급 프로세스 모니터링 및 제어 (Control) 기능을 통해 정확하고 재현이 가능한 처리 결과를 얻을 수 있습니다. 광학 방출 분광학 (OES), 질량 분석법, 엔드포인트 감지 시스템 (endpoint detection system) 과 같은 여러 내부 진단 도구가 장착되어 있어 프로세스 매개변수, 화학 반응 및 endpoint detection을 실시간으로 모니터링할 수 있습니다. 이러한 툴은 프로세스 성능에 대한 소중한 피드백을 제공하며, 즉석에서 조정하여 프로세스 조건을 최적화하고 일관된 결과를 얻을 수 있도록 합니다. 또한 921 은 고급 프로세스 제어 (process control) 기능 외에도 사용자 친화적 인 인터페이스와 직관적인 소프트웨어 (software) 를 제공하여 운영 및 프로그래밍을 간편하게 수행할 수 있습니다. 에셋에는 광범위한 프로세스 레시피, 매개변수 설정, 진단 도구에 대한 액세스를 제공하는 GUI (Graphical User Interface) 가 장착되어 있습니다. 운영자는 GUI 를 통해 프로세스 시퀀스를 손쉽게 프로그래밍하고, 사용자 정의하고, 프로세스 조건을 설정하고, 프로세스 진행률을 실시간으로 모니터링할 수 있으므로 프로세스 성능을 최적화하고, 처리 중에 발생할 수 있는 모든 문제를 해결할 수 있습니다. 또한 TEGAL 921 은 강력한 하드웨어 구성요소, 자동 안전 연결 (Automated Safety Interlock), 최고 수준의 운영 안전 및 신뢰성을 보장하는 내장 장애 감지 시스템 (내장 장애 감지 시스템) 을 통해 안전성과 안정성을 염두에 두고 설계되었습니다. 이 모델은 엄격한 업계 표준과 규정 요건을 충족할 수 있도록 제작되었으며, 이는 클린 룸 (Clearroom) 환경과 대용량 제조 설비에 적합합니다. 전반적으로, 921 etcher/asher 장비는 고급 기능, 뛰어난 성능 및 작동 편의성을 제공하는 반도체 프로세싱을위한 최첨단 도구입니다. 이중 챔버 설계, 고출력 플라즈마 소스, 고급 프로세스 모니터링 및 제어 기능, 사용자 친화적 인 인터페이스 (User-Friendly Interface), 강력한 안전 측정 (Safety Measure) 을 통해 반도체 업계의 다양한 어플리케이션에 이상적인 선택이 가능합니다.