판매용 중고 TEGAL 905 #293827391

TEGAL 905는 반도체 제조 공정을 위해 설계된 최첨단 에처/애셔 장비입니다. 첨단 반도체 소자의 제작에서 정확한 재료 제거 (material remove) 및 표면 처리 (surface treatment) 를 용이하게 하는 다용도 도구다. 이 도구는 photoresist stripping, descumming, plasma etching, surface cleaning 및 material modification과 같은 다양한 응용 분야에 널리 사용됩니다. 905 etcher/asher 시스템은 반도체 프로세싱에서 고성능, 신뢰성, 반복성을 보장하는 강력한 구성 및 혁신적인 설계를 갖추고 있습니다. 이 장치는 로드 잠금 챔버, 공정 챔버, 가스 전달 기계, RF 전원 공급 장치, 온도 제어 도구, 진공 펌프 및 고급 제어 자산으로 구성됩니다. 이러한 구성요소는 높은 수준의 프로세스 제어 (Process Control) 및 자동화 (Automation) 를 유지하면서 정확하고 균일한 처리 결과를 제공합니다. TEGAL 905 모델의 주요 기능 중 하나는 다용도 프로세스 기능입니다. 이 장비는 플루오린 기반, 염소 기반, 산소 기반, 특수 가스 등 다양한 에칭 화학 물질을 지원하므로 특정 재료 요구 사항에 따라 에칭 레시피를 사용자 정의할 수 있습니다. 이 유연성을 통해 시스템은 실리콘, 이산화실리콘, 질화실리콘, 금속, 유전체와 같은 다양한 유형의 물질을 선택성과 정확도가 높게 가져올 수 있습니다. 905 유닛에는 정전 커플 링, 유도 커플 링, 원격 플라즈마 소스를 포함한 고급 플라즈마 생성 기술이 장착되어 있어 프로세스 챔버 전반에 걸쳐 효율적이고 균일 한 플라즈마 생성을 달성합니다. 이 플라즈마 소스는 이온 에너지 (ion energy), 이온 밀도 (ion density), 에치 속도 (etch rate) 와 같은 공정 매개변수에 대해 높은 수준의 에치 균일성을 보장하고 제어하여 뛰어난 공정 반복 성과 신뢰성을 제공합니다. 또한, TEGAL 905 기계는 에칭 과정에서 가스 유속, 압력 및 조성을 정확하게 제어 할 수있는 정교한 가스 전달 도구를 갖추고 있습니다. 에셋에는 질량 흐름 컨트롤러, 압력 조절기, 가스 믹싱 (gas mixing) 기능이 장착되어 있어 특정 프로세스 요구 사항에 맞춘 맞춤형 에칭 분위기를 만들 수 있습니다. 공정 가스에 대한 미세 조정 제어를 통해 에칭 성능을 최적화하고 공정 유발 결함을 제거 할 수 있습니다 (영문). 또한, 905 모델은 에칭 프로세스 전반에 걸쳐 일관된 프로세스 환경을 유지하기 위해 고급 온도 조절 (temperature control) 기능으로 설계되었습니다. 이 장비는 기판 온도 및 챔버 온도를 제어하는 가열 및 냉각 메커니즘을 특징으로하며, 다양한 에칭 화학과 재료에 대한 최적의 프로세스 조건을 보장합니다. 이 온도 조절 시스템은 정확한 에칭 결과를 달성하고 기판에 대한 열 영향을 최소화하는 데 중요한 역할을합니다. 테갈 905 (TEGAL 905) 장치에는 공정 챔버에서 공정 부산물과 오염 물질을 신속하게 펌프 다운하고 효율적으로 제거 할 수있는 정교한 진공 기계가 장착되어 있습니다. 이 도구는 식각 과정에서 깨끗하고 안정적인 진공 환경을 만들고 유지하기 위해 대용량 터보 분자 펌프, 황삭 펌프, 진공 게이지, 압력 센서 등을 갖추고 있습니다. 이 진공 자산은 높은 공정 순도 (process purity) 를 보장하고, 입자 오염을 최소화하고, 공정 반복성과 수율을 향상시킵니다. 결론적으로, 905 etcher/asher 모델은 반도체 제조를위한 최첨단 도구로서, 광범위한 에칭 및 애싱 (ashing) 어플리케이션을 위해 정확하고, 안정적이며, 유연한 처리 기능을 제공합니다. TEGAL 905 장치는 고급 플라즈마 생성 기술, 가스 전달 장비, 온도 조절 기능, 진공 시스템 등을 통해 반도체 제조업체가 차세대 반도체 장치 제작에서 탁월한 프로세스 제어, 균일성, 성능을 달성 할 수 있습니다.