판매용 중고 TEGAL 903E #293828284

TEGAL 903E는 반도체 제조 산업을위한 고성능 에처/애셔입니다. 공정 챔버 (process chamber) 와 저압 에칭 (low-pressure etching) 기능이 크므로 정확한 크기 및 높은 수율을 가진 반도체 부품의 생산에 이상적입니다. TEGAL 903 E는 인상적인 25 4 "x 6" 에칭 보드를 특징으로하며, 이 보드는 챔버에 적재되어 빠르고 쉽게 숨겨져, 시간이 더 빨라지고 효율성이 높아집니다. "보오드 '는 은밀 하게 밀봉 된" 클리닝 챔버' 로 보호 되어 있어, 고품질 의 최종 제품 을 보장 해 주는 깨끗 하고 일관성 있는 환경 을 제공 한다. "에처 '의 주 공정" 챔버' 는 "에칭 '정밀도 를 향상 시키기 위해 저압 환경 을 가진 가열 된 석영 진공실 로 구성 되어 있다. 플라즈마 밀도를 극대화함으로써, 에칭 과정이 가속화되어, 더 큰 수율 및 더 짧은 주기 시간을 갖는 더 정밀한 부품이 생성된다. 903E는 여러 가지 주목할만한 기능도 제공합니다. 그것 은 "웨이퍼 '표면 의 매우 깨끗 하고 균일 한" 에칭' 을 주는 발전 된 정전기 초점 을 가지고 있다. 이를 통해 이온이 전통적인 에칭 기술로 흩어질 가능성이 없어지고 903 E (E) 가 표준을 손상시키지 않고 더 높은 수율을 제공 할 수 있습니다. 또한 TEGAL 903E에는 에칭 (etching) 프로세스를 정확하게 모니터링하여 최적의 안전 및 성능을 보장하는 고해상도 디지털화된 감지 시스템이 장착되어 있습니다. TEGAL 903 E는 또한 스퍼터 전력의 주요 원천으로 Nickel-Amorphous silicon (Ni-Si) 으로 구성되어 기판의 균일 한 에칭을 보장합니다. 이 기능은 매우 복잡한 공정의 웨이퍼 (wafer) 를 건조 (dry) 하는 데 이상적이며, 높은 열과 현재 밀도가 허용 될 수있는 고성능, 정확하고 효율적인 부품을 생산할 수 있습니다. 903E 에처 (etcher) 는 최신 프로세스 소프트웨어에서 지원되며, 이를 통해 자동화된 디지털 제어 오픈 프로세스 변형이 가능합니다. 이 기능을 통해 시스템 생산이 더욱 안정적이고, 효율적이며, 비용 효율적이므로, 안정적이고, 고품질의 최종 제품이 됩니다. 결론적으로 903 E는 반도체 제조 산업에 강력하고, 안정적이며, 효율적입니다. 저압, 밀봉형 클리닝 챔버는 깨끗하고 균일 한 에치를 보장하며, 25 개의 4 "x 6" 보드 및 고급 정전기 포커싱은 최소 폐기물로 매우 정밀한 부품을 생산합니다. TEGAL 903E는 자동화된 프로세스 제어, Ni-Si 스퍼터 파워 (sputter power) 및 최신 프로세스 소프트웨어를 통해 최고 수준의 품질, 성능, 수율을 제공하며 탁월한 비용 효율성을 제공합니다.