판매용 중고 TEGAL 901e #9381612

TEGAL 901e는 웨이퍼 처리 작업에서 탁월한 성능을 발휘하도록 설계된 매우 강력한 에칭/애싱 장비입니다. 이 etcher/asher 시스템은 하나의 모듈식 패키지에서 프로세스 제어 및 분석 기능을 제공하는, 그래픽 인터페이스 및 임베디드 (Embedded) 컴퓨터를 갖춘 완전 자동화된, 높은 처리량 장치입니다. 이 장치는 또한 실리콘, FR4, 저마늄 및 GaA와 같은 기질의 다양한 공정 에칭 및 애싱 (ashing) 을 제공합니다. TEGAL 901 E에는 배치 당 최대 6 개의 웨이퍼를 수용 할 수있는 120mm 로드 록 챔버 및 로드 포트가 장착되어 있어 빠르고 효율적인 웨이퍼 처리가 용이합니다. 또한, 챔버 (chamber) 는 승화 난방 단계, 샘플보기 기계 및 질량 흐름 컨트롤러를 포함한 광범위한 옵션을 제공합니다. 파노라마 이미징 (Panoramic Image) 과 결합된 샘플 보기 도구는 에칭 및 애싱 (Ashing) 시 샘플의 정확한 위치를 보장합니다. 901e의 플라즈마 소스는 다중 주파수 ECR (전자 사이클로트론 공명) 기술을 기반으로합니다. 저전력 (low-high) 범위의 RF 전원 출력을 생성하여 다양한 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 조건을 가능하게 합니다. 플라즈마 소스에는 프로세스 사이클 시간 단축을위한 빠른 사이클링 (rapid cycling) 메커니즘이 장착되어 있습니다. 901 E는 또한 안전하고 에너지 효율적이도록 설계되었으며, 이는 연구, 파일럿 라인 (pilot line) 및 산업 응용 분야에 이상적입니다. TEGAL 901e는 완전 자동화된 웨이퍼 처리 에셋 (wafer handling asset) 및 그래픽 사용자 인터페이스 (graphical user interface) 를 활용하여 웨이퍼 맵과 프로그램 시퀀스를 자동으로 인쇄하여 에칭 및 애싱 프로세스를 단순화합니다. 이를 통해 사용자는 주파수와 전력, 온도, 압력, 가스 구성 등의 에칭 매개변수를 정확하게 제어 할 수 있습니다. 또한, 사용자는 시스템의 소프트웨어를 사용하여 프로세스 진행 상황을 쉽게 모니터링하고, 사후 프로세스 결과를 분석할 수 있으므로, 결과가 안정적이고, 반복되고, 일관성을 보장할 수 있습니다. TEGAL 901 E 는 실행 시간 동안 웨이퍼 프로세싱 및 장기 안정성 측면에서 탁월한 성능을 제공하는 안정적이고 강력한 에칭/애싱 (etching/ashing) 툴을 제공합니다. 컴팩트한 디자인, 직관적인 사용자 인터페이스를 통해 더 쉽고 효율적으로 웨이퍼 처리를 수행할 수 있습니다. 또한, 이 모델의 프로세스 매개변수 식별 및 모니터링 (monitor) 기능을 통해 사용자는 프로세스 조건을 정확하게 관리하고 제품 품질을 유지할 수 있습니다.