판매용 중고 TEGAL 901e #9286374

TEGAL 901e는 빠르고 안정적인 칩 제작을 위해 설계된 고급 에칭 장비입니다. 이 시스템은 "전자 화학 에칭" 으로 알려진 강력한 CVD (Chemical Vapor Deposition) 프로세스를 사용하여 실리콘 및 금속을 포함한 다양한 물질에 정확한 회로를 정확하게 에치합니다. TEGAL 901 E는 에칭 과정에서 세 가지 주요 구성 요소를 사용합니다. 진공원, 가스 밸브 및 에칭 챔버. CVD 프로세스 동안, 에칭 챔버 (etching chamber) 에 매우 정밀한 진공이 적용되어 정확한 증기 에친트 재료의 정확한 배치를 보장합니다. 그런 다음, 이 증기성 에찬트 (evaporous etchant) 는 에칭 챔버 (etching chamber) 내의 물질에 정확하게 적용되어 회로 결과를 정확하게 제어하고 정확하게 제어 할 수 있습니다. 이 장치 는 또한 "가스 '" 밸브' 를 사용 하는데, 그것 은 지성적 으로 매분 150 입방 "센티미터 '까지 정확 한 양 의 식각 재료 를 공급 하도록 설계 되었다. 이 고급 자동 밸브는 높은 품질과 일관된 결과를 보장합니다. 901e의 고속, 신뢰성 있는 칩 제작 기능은 정밀 에칭 (eching) 과 정밀도 가스 밸브 (gas valve) 의 조합으로 활성화됩니다. 901 E는 최첨단 에처 (etcher) 로, 0.18 미크론까지 크기 크기의 영구 기하학적으로 정확한 집적 회로를 생성 할 수 있습니다. 이 고급 머신은 기능 크기 정확도가 ± 4 미크론 인 초미세 형상을 빠르게 생성 할 수 있으며, 매우 정확하고 나노 미터 수준의 에칭 결과를 제공합니다. 마지막으로 TEGAL 901e에는 직관적이고 사용자 친화적 인 소프트웨어를 사용하여 시스템 설치 및 작동이 간편합니다. 이 도구는 또한 고급 기능 (예: 상세한 보고서를 생성하고 실시간 온도, 진공 측정 유지) 이 로드됩니다. 또한, 이 자산은 향상된 안전 프로토콜 (Safety Protocol) 을 제공하여 사용자가 유해 물질을 가져올 때 자신과 기계를 보호 할 수 있도록 합니다. TEGAL 901 E (TEGAL 901 E) 는 0.18 미크론 크기의 고밀도, 정확한 회로를 생산할 수있는 강력하고 신뢰할 수있는 에칭 모델입니다. 이 장비는 다양한 소재와 함께 사용할 수 있으며, 사용자 친화적인 소프트웨어 및 고급 안전 (Advanced Safety) 프로토콜을 제공하며, 정확도가 높은 초소형 형상을 식각할 수 있습니다.