판매용 중고 TEGAL 901e #9196408
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ID: 9196408
웨이퍼 크기: 4"-6"
Reactive ion etcher (RIE), 4"-6"
ENI ACG-10T
RF Generator
THERMO NESLAB M75.
TEGAL 901e는 MEMS 및 반도체 제조 공정에서 사용하도록 특별히 개발 된 에치 레지스트 (etch resist) 와 함께 사용하도록 설계된 고급 에처/애셔입니다. 이 장치는 다양한 가변 파라미터 (variable parameter) 를 갖춘 고출력 펄스 레이저 (pulsed laser) 를 갖추고 있어 다양한 생산 실행에 적합합니다. 구리, 몰리브덴, 알루미늄, 실리콘, 폴리 실리콘, 산화물 및 유리를 포함한 다양한 기질의 빠르고 정확하며 신뢰할 수있는 에칭을 제공 할 수 있습니다. TEGAL 901 E는 에치 저항 개발을 정확하고 정확하게 제어하도록 설계되었습니다. 이 장치의 고출력 레이저를 사용하면 레이저 드리프트, 노출 길이, 총 에칭 시간 (etching time) 을 구체적으로 제어할 수 있습니다. 또한, 이 장치에는 생산 중 안전성을 보장하기 위해 여러 가지 안전 (safety) 기능이 장착되어 있습니다. 이러한 안전 기능에는 비상 정지 (Emergency Stop) 버튼과 I 케이블이 분리되거나 레이저가 최대 빔 전원에 도달하면 울리는 가청 경보 시스템 (Audible Alarm System) 이 포함됩니다. 이 장치에는 또한 활성 전원 공급 장치, 레이저 에미터, 광섬유 배송 광섬유 (optical fiber delivery fiber), 연산 프로세서 (computational processor) 를 포함하는 디지털 제어 장치가 장착되어 있습니다. 이 조합을 사용하면 정확하고 일관된 에칭 결과를 얻을 수 있습니다. 901e는 사용 편의성과 낮은 소유 비용도 제공합니다. 사용자는 추가 시간 (시간) 이나 비용 (돈) 없이 신속하게 매개변수를 변경하고 장치를 재프로그램할 수 있습니다. 또한이 장치는 Kodak, Photopat 및 Positive의 다양한 에치 저항으로 작동하도록 설계되었습니다. 또한, 장치는 여러 표준 두께 웨이퍼 (standard thickness wafer) 와 호환되므로 다양한 프로덕션 실행이 가능합니다. 결론적으로, 901 E는 다양한 기질의 정확한 에칭을 위해 설계된 다재다능하고 신뢰할 수있는 에칭/애싱 장치입니다. 고출력 레이저, 안전 기능, 디지털 제어장치 등은 반도체· MEMS 산업에 귀중한 도구다. 또한 사용 편의성과 TCO (총소유비용) 가 낮기 때문에 모든 규모의 운영 실행에 이상적인 솔루션이 됩니다.
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