판매용 중고 TEGAL 901e #293594314

TEGAL 901e는 반도체 장치를 염두에두고 설계된 에처입니다. 자동화되거나 수동으로 제어 할 수있는 단면 (single-side) 또는 양면 (double-side) 에칭 체제에서 작동 할 수 있습니다. TEGAL 901 E는 저항성 코팅 웨이퍼를 사용하여 플루오로 카본 가스 분자의 혈장에 의해 에칭된다. 이 플라즈마는 RF 에너지, 아르곤 (Argon) 및 산소 (Oxygen) 의 조합에 의해 생성되며, 이는 플루오로 카본 분자를 작은 분자로 분해하여 웨이퍼 표면에서 에칭 제로 작용합니다. 이것 은 반응 을 정확 하게 제어 할 수 있기 때문 에, 습기 가 가능 한 것 보다 더 높은 "디테일 '로" 에치' 를 할 수 있게 하는 것 이 유익 하다. 장비에는 가스 혼합물이 포함 된 진공 챔버 (vacuum chamber) 와 RF 및 DC 전원 모두 소스가 포함됩니다. 901e는 13 가지 전원 수준을 제공하여 프로세스를 최적으로 튜닝할 수 있습니다. 또한 특정 에치 (etch) 깊이를 보장하기 위해 프로세스 시간을 제어할 수있는 3 개의 프로세스 타이머가 있습니다. 901 E는 웨이퍼 전체에서 2 ~ 3% 의 균일성으로 에치 할 수 있으며 패턴을 0.5 미크론까지 에치 할 수 있습니다. 또한 최대 200mm 직경의 웨이퍼를 수용할 수 있습니다. 유사한 기능을 제공하는 유사한 시스템과 비교할 때 장치 자체는 비교적 경제적이며, TEGAL 901e (TEGAL 901e) 는 전 세계 많은 반도체 실험실에서 사용됩니다. TEGAL 901 E 유지 관리는 최소이며, 머신은 간단한 사용 및 작동을 위해 설계되었습니다. "실리콘 '," 알루미늄' 및 "티타늄 '을 포함 한 대부분 의 기판 에서 사용 할 수 있다. 901e는 다재다능하고 신뢰할 수 있으므로 고품질 에처 (etcher) 를 찾는 사람들에게 적합합니다.