판매용 중고 TEGAL 901ACS #9395520

제조사
TEGAL
모델
901ACS
ID: 9395520
웨이퍼 크기: 6"
빈티지: 2018
Reactive Ion Etcher (RIE), 6" 2018 vintage.
TEGAL 901ACS etch/ash는 뛰어난 기능을 갖춘 고급 에칭 장비입니다. 자가 격리 (self-containment) 기능을 통해 오염 위험을 줄일 수 있으며, 단일 웨이퍼 (single-wafer) 배치 프로세스를 통해 처리량 및 비용 절감 효과를 높일 수 있습니다. 이 시스템은 정확하고 일관된 작동을 제공하는 기계적 (mechanical) 과 전기적 (electrical) 설계를 갖추고 있으며, 사용자 친화적인 인터페이스를 갖춘 프로세스 컨트롤러 (process controller) 를 통해 장치 설정과 매개변수에 쉽게 액세스할 수 있습니다. 901ACS 에처에는 SF6과 염소의 두 가지 공정 가스가 표준으로 제공됩니다. 염소 가스는 실리콘 웨이퍼를 에칭하는 데 사용되며, SF6 가스는 에칭 중에 생성 된 표면 오염 물질을 제거하는 데 사용됩니다. 또한, 기계는 100mm에서 300mm 사이의 광범위한 웨이퍼 크기를 처리 할 수 있습니다. 웨이퍼 크기가 자동으로 감지되고 프로세스 매개변수가 적절하게 조정됩니다. 테갈 901ACS (TEGAL 901ACS) 에는 최대 12 개의 웨이퍼를 동시에 처리 할 수있는 대형 챔버가 있습니다. 공구에는 자동 냉각 피쳐 (automatic cooldown feature) 도 있어 챔버 환경이 안전한 온도로 유지됩니다. 또한 프로세스 매개 변수를 일관되게 유지하는 데 도움이 됩니다. 901ACS는 정확한 프로세스 제어를 위해 이중 주파수 AC 전원 공급 장치를 사용하여 결과를 재현할 수 있습니다. 또한, 자산에는 과전압, 과전류 보호, 지상 탐지 등 여러 안전 기능이 장착되어 있습니다. 또한 모듈식 (modular) 설계를 통해 장비의 기능을 쉽게 업그레이드하고 확장할 수 있습니다. TEGAL 901 ACS etcher/ashers는 여러 응용 프로그램의 요구 사항을 충족하도록 맞춤형으로 구성된 다양한 프로세스 옵션을 제공합니다. 강력한 설계로 대용량 생산에 적합하고, 사용이 편리하여 저용량 (low-volume) 연구소에 적합합니다. 정확성과 유연성으로 인해 정확한 에칭 (etching) 매개변수가 필요한 어플리케이션에 적합한 솔루션이 됩니다.
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