판매용 중고 OXFORD Plasmalab 80 Plus #293665218

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에처/애셔
제조사
OXFORD
모델
Plasmalab 80 Plus
ID: 293665218
Reactive Ion Etcher (RIE) / Inductive Coupled Plasma (ICP) Etcher Cl2 SF6 SiCl3 CHF3 O2/Ar Chiller.
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옥스포드 플라즈말랩 80 플러스 (OXFORD Plasmalab 80 Plus) 는 다양한 기판 및 재료의 에칭 또는 재싱을위한 신뢰할 수 있고, 반복 가능하며 강력한 솔루션을 제공하는 에칭/애싱 장비입니다. Plasmalab 80 Plus는 RIE (reactive ion etching), ICP (inductively coupled plasma) 및 PECVD (plasma-enhanced chemical vapor deposition) etching을 포함한 다양한 정밀 에칭 프로세스를 사용합니다. 이 프로세스는 다양한 방법으로 프로그래밍되어 최적의 에칭 결과를 얻을 수 있습니다. OXFORD Plasmalab 80 Plus는 진공 실에서 다양한 프로세스를 수행하도록 설계되었습니다. 그것 은 주위 에서 250 ° C 까지 폭 넓은 온도 에서 "에칭 '과" 애싱' 을 할 수 있다. 0 ~ 1000 와트의 매우 정확한 전원 공급 장치 (power supply) 를 통해, 시스템은 DC 전원 응용 프로그램과 서로 다른 화학 물질을 가진 에치 프로세스 배열에 대한 다양한 파형으로 프로그래밍 될 수 있습니다. Plasmalab 80 Plus에는 자동 샘플 전송 장치 (sample transfer unit) 및 샘플 단계 (sample stage) 가 장착되어 있어 웨이퍼를 쉽게 전송할 수 있습니다. 또한 소프트웨어 (software) 를 통해 사용자가 에칭 프로세스를 제어하고 에치 사이클 전반에 걸쳐 균일성을 유지할 수 있습니다. 뿐 만 아니라, 위험 한 물질 과 화학 물질 에 대한 특별 한 마련 이 이루어져, 안전 한 환경 을 제공 한다. 컴퓨터에는 사용자 보호를 위해 다양한 안전 (Safety) 기능이 제공됩니다. 여기에는 다중 연동, 압력 모니터링, 산소 및 물 센서 및 긴급 차단이 포함됩니다. 게다가, 공구 는 공정 전체 에 걸쳐 "챔버 '와 부품 에 오염 을 최소화 하도록 설계 되었다. 옥스포드 플라즈말랩 80 플러스 (OXFORD Plasmalab 80 Plus) 는 연구 응용 프로그램 및 에치 (etch) 또는 애싱 (ashing) 작업을 매우 정확하게 구성해야 하는 기타 응용 프로그램에 적합한 솔루션입니다. 최첨단 기술은 반복성 (repeatability) 과 균일성 (unifority) 과 결합하여 신뢰할 수있는 에칭 (etching) 및 애싱 (ashing) 프로세스를 찾는 사람들에게 이상적인 선택입니다.
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