판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON UW-300Z #9267289

TEL/TOKYO ELECTRON UW-300Z는 웨이퍼 클리닝, 에칭 및 박막 증착과 같은 다양한 반도체 관련 프로세스에 적합한 습식 스테이션입니다. 습식 및 건식 공정과 호환되므로 STI (shallow trench isolation) 에서 CMP (chemical-mechanical polishing) 에 이르는 응용 분야에서 사용할 수 있습니다. TEL UW300Z (Automated Tool Control System) 는 공구 및 공정의 자동 스케줄링 및 여러 공구에 걸친 균일 한 화학 물질을 지원합니다. TOKYO ELECTRON UW 300Z 주택은 견고한 스테인레스 스틸 (stainless steel) 로 만들어졌으며 공정 챔버는 직경 300mm까지의 웨이퍼를 수용하는 로우 프로파일 디자인입니다. 또한 장치 전면에 위치한 사용하기 쉽고 직관적인 스타일의 터치스크린 디스플레이 (Touchscreen Display) 를 통해 프로세스를 쉽게 조작할 수 있습니다. TEL/TOKYO ELECTRON UW 300 Z (TEL/TOKYO ELECTRON UW 300 Z) 에는 유해 화학 물질이나 재료로부터 보호하기 위해 운영자가 공정 챔버에 접근하지 못하도록 주택의 안전 광 커튼과 같은 안전 기능이 내장되어 있습니다. 공정 화학 물질 측면에서 UW 300Z는 HF (플루오린화 수소산), NaOH (수산화나트륨) 및 KOH (수산화칼륨) 와 같은 다양한 습식 에치 공정을 지원할 수 있습니다. 습식 공정 을 이용 하여 "웨이퍼 '의 표면 을 청소 하고" 나노' 구조 를 그 표면 으로 무늬 를 만들 수 있다. 또한, TEL UW 300Z는 또한 태양 전지에 사용되는 알루미늄 필름 (예: 와퍼 표면) 에 박막을 증착시키는 데 사용될 수있다. 운영자 안전을 위해 TEL/TOKYO ELECTRON UW 300Z에는 오픈도어 인터 록 (open-door interlock) 이 장착되어 있어 웨이퍼가 실험실에 있는 동안 운영자가 프로세스 챔버에 들어가는 것을 방지합니다. 또한, TOKYO ELECTRON UW300Z는 오염 된 공기가 실험실 환경에서 제대로 배출되도록 배기 후드를 특징으로합니다. 또한, UW-300Z에는 프로세스 챔버의 입자 수준을 지속적으로 모니터링하여 실시간 프로세스 모니터링을 허용하는 온보드 입자 모니터링 시스템 (On Board Particle Monitoring System) 도 포함되어 있습니다. 전반적으로 TOKYO ELECTRON UW 300 Z는 반도체 응용 분야에 이상적인 습식 스테이션 솔루션입니다. 경량 (Light) 이지만 견고한 설계이며, 실험실에서 안전하게 운영자를 보호하는 통합 안전 기능이있는 자동 공구 제어 시스템 (Automated Tool Control System) 을 제공합니다. 또한, TEL UW 300 Z는 다양한 공정 화학 물질 및 박막 증착과 호환되며, 이는 다양한 산업 및 연구 응용에 적합한 선택입니다.