판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #9351446

TEL/TOKYO ELECTRON Expedius는 습식 공정 스테이션으로, 반도체 제작 및 산업 응용 분야를 위해 설계되었습니다. 이 습식 공정 스테이션은 자외선 (UV) 노출, 화학 증착, 습식 에칭 및 기타 액체 기반 프로세스를 포함한 고품질 리소그래피 결과를 생성하는 데 이상적입니다. 이 스테이션에는 통합 컨트롤, 자체 진단 결함 감지, 1 단계 화학 공급 시스템 및 기타 고급 자동화 기술이 포함 된 완전 자동화 장비가 있습니다. TEL Expedius는 빠른 반응 액체 처리, 챔버 프로세스를위한 쇼어 헤드 전달 장치, 정교한 자동 클렌저 머신 (automatic cleanser machine) 을 갖춘 물 기반 공정 챔버로 구성됩니다. 이 작업 도구를 통해 스테이션은 다양한 프로세스 (process) 를 수행할 수 있으므로 생산률 (production rate) 과 품질 (quality) 이 향상됩니다. TOKYO ELECTRON Expedius (TOKYO ELECTRON Expedius) 에 보관되는 통합 컨트롤에는 스테이션 내의 모든 프로세스를 직관적으로 작동하고 관리하는 고급 컴퓨터 기반 프로토콜이 있습니다. 이 프로그램은 각 단계의 운영자를 설정에서 작동까지 안내합니다. 여기에는 고급 자동화 (advanced automation) 에 대한 액세스 및 각 단계에 대한 사전 설정된 값이 포함됩니다. 즉, 설정은 에셋에 저장되고 특정 용도로 필요에 따라 빠르게 조정될 수 있습니다. 이 습식 스테이션은 비교적 저렴한 가격으로 고성능 기능을 제공합니다. 온도 조절 이 뛰어나기 때문 에 여러 가지 기판 에 적합 하게 되며, 고속 으로 "스테이션 '은 긴 공정 을 보다 짧은 시간 에 완성 시킬 수 있게 된다. 그 공정 은" 타이어' 이다. 이 스테이션에는 탑로드 카세트 로더와 특허 분산 메커니즘이 장착 된 소스 화학적 인젝터 (at-source chemical injector) 가 장착되어 있습니다. 카세트 로더는 최대 8 개의 활성 카세트를 보유 할 수 있으며, 소스 화학분사 (at-source chemical injector) 는 각 기판에 필요한 화학적 양을 정확하게 제어 할 수있는 반면, 빠른 로딩 및 언로드를 제공합니다. Expedius는 photolithography, wet etching, CMP 및 micro-fabrication을 포함한 다양한 기술에 적합합니다. 또한 포토리스 (photoresist) 및 기타 포스트 프로세싱 단계의 통합 탐지 및 제거가 가능한 옵션 포토레스 스트립 사이클 (photoresist strip cycle) 을 제공하여 더 빠른 사이클 시간 및 더 높은 볼륨 생산이 가능합니다. 이 스테이션에는 액체 공급에서 거품을 식별하고 배출하는 거품 탐지 모델 (bubble detection model) 이 있어 일관성 있고 고품질 결과를 제공합니다. 이 습식 스테이션은 프로세스 일관성, 정밀성 및 반복성을 위해 설계되었습니다. TEL/TOKYO ELECTRON Expedius는 가전 제품에서 의료 장치 및 항공 우주 부품에 이르기까지 많은 산업에 적합합니다. 견고한 프레임, 고급 기능, 자동 (automated) 기술을 통해 운영 워크플로우 및 품질 관리를 효율적으로 유지할 수 있습니다.