판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Expedius #293666975

TEL/TOKYO ELECTRON Expedius는 반도체 처리 응용 분야에 사용하도록 설계된 습식 스테이션입니다. 단일 웨이퍼 처리 (single wafer processing) 를 위한 첨단 장비로, 배치 (batch) 및 연속 (continuous) 프로세스를 모두 처리할 수 있습니다. 이 시스템은 최대 6 인치의 웨이퍼를 처리하도록 설계되었으며, 300mm 및 200mm 웨이퍼와 모두 호환됩니다. TEL 엑스페디우스 (TEL Expedius) 습식 스테이션은 두 개의 독립적 인 온도 제어 습식 욕조로 구성되며, 이는 욕조 사이에 웨이퍼를 이동하여 일련의 처리 단계를 수행하는 데 사용됩니다. 목욕탕은 자동화되어 있으며, 사용자의 요구 사항에 따라 일련의 처리 (processing) 단계를 수행하도록 프로그래밍될 수 있습니다. 목욕탕은 최대 200 ° C까지 가열 할 수 있으며, 둘 다 온도 측정 시스템 (temperature measurement system) 이 장착되어 프로세스 전반에 걸쳐 일관된 온도를 보장합니다. 습식 목욕탕 외에도 습식 스테이션 (wet station) 에는 화학 저장 및 분배를 담당하는 내장 화학 처리 장치가 포함되어 있습니다. 이것은 재료 비용을 줄이고 생산성을 향상시키는 데 도움이됩니다. 이 스테이션은 또한 유해 및 비유해 화학 물질을 모두 처리 할 수 있으며, 다양한 공정 응용 프로그램 (process application) 에 적합합니다. TOKYO ELECTRON Expedius는 웨이퍼 처리 프로세스를 자동화하여 뛰어난 수준의 품질 제어를 제공하도록 설계되었습니다. 습식 스테이션에 장착 된 고해상도 카메라는 처리 중인 웨이퍼의 실시간 이미지를 제공합니다. 이 기계는 사용자에게 탐지 (deteting), 경고 (alerting), 프로세스 도중 발생할 수 있는 모든 이상, 프로세스 효과를 모니터링할 수 있는 수단을 제공합니다. 주변 환경 또는 공정 실 (process chamber) 의 오염을 방지하는 유출 방지 도구 (anti-spillage tool) 와 같은 중요한 안전 기능도 포함됩니다. 자산에는 처리 중 일관된 품질을 보장하기위한 고급 진공 시스템도 포함되어 있습니다. 진공 모델 (vacuum model) 은 식각 과정에서 균일성을 보장하며, 프로세스 요구 사항에 따라 다양한 수준의 진공 상태를 제공 할 수 있습니다. 또한, 장비의 내장 로드 잠금 시스템은 웨이퍼 배치 오류로 인한 프로세스 실패를 최소화하는 데 도움이 됩니다. 마지막으로, Expedius 습식 스테이션은 사용 가능성과 유지 관리를 염두에두고 설계되었습니다. 즉, 사용자 인터페이스는 매우 직관적이고 작동하기 쉽고, 모듈식 (modular) 설계를 통해 필요할 때 손쉽게 유지 관리 및 수리 작업을 수행할 수 있습니다. 전반적으로 TEL/TOKYO ELECTRON Expedius는 다양한 반 도체 응용 프로그램에서 효과적이고 안정적인 웨이퍼 처리를 위해 설계된 고급 습식 스테이션입니다. 프로세싱을 위한 자동화된 온도 조절 환경을 제공하며, 고급 이미지 인식 (advanced image recognition) 및 진공 시스템 (vacuum system) 을 통해 프로세스 제어를 개선합니다. 또한, 사용자 인터페이스와 모듈식 설계를 통해 쉽게 작동하고 유지 관리할 수 있습니다. 따라서 TEL Expedius 습식 스테이션은 모든 반도체 처리 응용 분야에 적합한 선택입니다.