판매용 중고 SNOWTEC CO2 Cleaning system #293702143

SNOWTEC CO2 청소 장비는 반도체 제조 공정에서 철저하고 효율적인 웨이퍼 클리닝을 위해 설계된 최첨단 습식 스테이션입니다. 이 혁신적인 시스템은 고급 CO2 청소 기술을 갖추고 있으며, 입자, 잔류 물, 오일, 유기 필름 등 다양한 유형의 오염 물질을 웨이퍼에서 제거하는 데 탁월한 성능과 신뢰성을 제공합니다. CO2 청소 과정은 초임계 상태에서 이산화탄소 (CO2) 의 독특한 특성에 의존하며, 이는 섬세한 표면을 손상시키지 않고 정확하고 부드럽게 청소합니다. 이산화탄소 청소 장치 (CO2 Cleaning unit) 의 핵심에는 특수 챔버 (specialized chamber) 가 있는데, 여기서 웨이퍼는 청소 효과를 향상시키기 위해 공동 용매와 결합 된 초 임계 CO2의 제어 흐름에 노출된다. 초임계 CO2 유체는 가스 (gas) 와 액체 (liquid) 와 같은 특성을 모두 나타내어 단단한 공간을 뚫고 분자 수준에서 오염 물질을 용해 할 수있다. 이로 인해 표면 손상 및 입자 재장착 (re-deposition) 을 최소화하여 수율 및 장치 성능이 향상됩니다. SNOWTEC CO2 클리닝 머신 (Cleaning Machine) 은 다양한 웨이퍼 크기, 재료 및 프로세스 요구사항을 수용하기 위해 온도, 압력, 흐름 속도와 같은 조정 가능한 매개변수를 갖춘 사용자 정의 가능한 클리닝 프로세스를 제공합니다. 또한 실시간 모니터링/제어 기능을 통해 일관된 클리닝 성능과 프로세스 반복성을 보장합니다. 또한 자산의 자동 처리 (automated handling) 기능을 통해 처리량을 높이고 운영자의 개입을 줄여 생산성 및 운영 효율성을 높일 수 있습니다. 이산화탄소 청소 (CO2 Cleaning) 모델은 탁월한 클리닝 기능과 더불어 간편한 유지 관리 및 서비스 편의성, 액세스 가능한 구성 요소, 운영/문제 해결을 위한 사용자 친화적 인터페이스 등을 제공하도록 설계되었습니다. 이 장비는 까다로운 반도체 제조 환경에서 장기적인 안정성과 내구성을 위해 고품질 소재 (HQP) 와 부품으로 제작되었습니다. 또한 SNOWTEC CO2 클리닝 시스템에는 인터 록 (interlock), 압력 완화 밸브, 비상 정지 메커니즘 등 운영자와 환경을 보호하기 위해 안전 기능이 장착되어 있습니다. 이 장치는 유해 물질의 안전한 운영 및 처리를 위해 업계 표준 (Industry Standard) 및 규정을 준수합니다. 전반적으로 CO2 클리닝 머신 (Cleaning machine) 은 최첨단 습식 스테이션 솔루션으로 반도체 제조에서 웨이퍼 클리닝 어플리케이션을 위한 탁월한 성능, 유연성, 신뢰성을 제공합니다. 혁신적인 CO2 클리닝 기술, 커스터마이징 가능한 프로세스 매개변수, 자동 처리 기능, 고급 모니터링 기능을 갖춘 이 툴은 반도체 제조업체에게 생산 프로세스에 대한 고품질의 무오염 웨이퍼 (contamination-free wafer) 를 제공하는 경쟁력을 제공합니다.