판매용 중고 PYRAMIDTECH OP-001 #293814747

ID: 293814747
Semi auto wet benchs.
PYRAMIDTECH OP-001 습식 스테이션 (wet station) 은 실리콘 웨이퍼의 청소 및 처리를 용이하게하기 위해 반도체 제조 시설에 사용하도록 설계된 최첨단 장비입니다. 이 습식 "스테이션 '은 반도체 장치 의 제조 공정 에서 중요 한 요소 로서" 웨이퍼' 표면 에서 오염 물질 과 입자 를 제거 하여, 그 후 처리 단계 에 대하여 그 들 의 청결 함 과 무결성 을 보장 해 준다. OP-001 습식 스테이션 (OP-001 wet station) 은 최신 반도체 제조 공정의 엄격한 요구 사항을 충족시킬 수있는 광범위한 기능을 제공하는 고도의 장비입니다. 이 "탱크 '는 청소" 솔루션' 과 화학 물질 을 저장 하기 위한 여러 대 의 "탱크 '와" 웨이퍼' 를 정밀 하고 일관성 있게 처리 하기 위한 일련의 자동 조절 장치 및 "센서 '를 갖추고 있다. PYRAMIDTECH OP-001 습식 스테이션 (wet station) 의 핵심에는 여러 웨이퍼를 동시에 수용하도록 설계된 처리 챔버가 있습니다. 이 "챔버 '에는 청소 용액 에" 웨이퍼' 를 철저 히 몰입 시킬 수 있는 회전 장치 가 갖추어져 있어서, 모든 표면 을 적절 히 청소 하고 처리 한다. 이 챔버에는 고압 스프레이 노즐 (고압 스프레이 노즐) 이 장착되어 있어 완고 한 오염 물질을 웨이퍼 표면에서 제거 할 수있는 클리닝 솔루션 (cleaning solutions) 의 정확한 버스트를 제공 할 수 있습니다. OP-001 습식 스테이션 (OP-001 wet station) 은 사용자 친화적이고 작동하기 쉽도록 설계되었으며, 사용자 인터페이스를 통해 운영자가 클리닝 프로세스의 다양한 매개변수를 설정하고 모니터링할 수 있습니다. 시스템은 여러 클리닝 단계를 순차적으로 수행하도록 프로그래밍 될 수 있으며, 다른 웨이퍼 (wafer) 및 프로세스의 특정 요구 사항에 맞게 몰입 시간 (immersion time), 온도 (temperature), 압력 (pressure) 과 같은 매개변수를 조정하는 옵션을 사용할 수 있습니다. PYRAMIDTECH OP-001 습식 스테이션 (wet station) 의 주요 특징 중 하나는 광범위한 청소 솔루션 및 화학 물질을 처리 할 수있는 기능이며, 반도체 제조업체는 청소 공정이 제조 공정의 특정 요구를 충족하도록 조정할 수 있습니다. 이 장치는 반도체 제조에 일반적으로 사용되는 다양한 산, 염기, 용매와 호환되며, 청소 작업의 유연성과 다양성을 보장합니다. OP-001 습식 스테이션 (wet station) 은 청소 기능 외에도 운영자와 환경을 유해 화학 물질에 노출시키지 않도록 보호 할 수있는 고급 안전 기능을 갖추고 있습니다. 이 기계는 유출 및 누출을 방지하기 위해 견고한 컨테인먼트 시스템 (containment system) 과 청소 프로세스 동안 잠재적 인 문제에 대해 운영자에게 경고하기 위한 내장 모니터링 (monitoring) 및 경보 시스템 (alarm system) 으로 설계되었습니다. 전반적으로 PYRAMIDTECH OP-001 습식 스테이션 (wet station) 은 웨이퍼의 깨끗함과 품질을 향상시키려는 반도체 제조업체를위한 최첨단 솔루션입니다. 고급 기능, 사용자 친화적 인터페이스, 다양한 클리닝 솔루션과의 호환성 등을 갖춘 이 Wet Station 은 반도체 제작 프로세스에서 실리콘 웨이퍼 (silicon wafer) 의 무결성을 유지하기 위한 안정적이고 효율적인 솔루션을 제공합니다.
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