판매용 중고 KC TECH KCT-W300F #293757180
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ID: 293757180
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2008
PR Stripper, 12"
Process flow: SPM / LAL / SC1
2008 vintage.
KC TECH KCT-W300F는 제어된 환경에서 정밀 청소 및 표면 준비가 필요한 반도체 제조 공정을 위해 설계된 최첨단 습식 스테이션입니다. 이 습식 "스테이션 '은 반도체 산업 이 요구 하는 높은 정결 과 신뢰성 의 표준 을 충족 시키도록 세심 하게 설계 되었으며, 이것 은" 반도체' 제조 시설 을 위한 필수 불가결 한 도구 이다. KCT-W300F 습식 스테이션 (Wet Station) 의 주요 특징 중 하나는 모듈식 설계로, 각기 다른 반도체 프로세스의 특정 요구 사항을 쉽게 사용자 정의하고 확장할 수 있습니다. 습식 스테이션 (Wet Station) 에는 클리닝, 린싱, 건조 및 화학 처리를 포함한 여러 프로세스 모듈이 장착되어 있으며, 다양한 조합으로 구성되어 광범위한 프로세스 시퀀스를 수용할 수 있습니다. KC TECH KCT-W300F 습식 스테이션의 클리닝 모듈은 높은 효율성과 균일성을 가진 반도체 기판에서 오염 물질과 잔기를 제거하도록 설계되었습니다. 그것 은 "초음파 '청소," 메가소닉' 청소, "스프레이 '청소 와 같은 고급 청소 기술 로, 손상 이나 결함 을 일으키지 않고 기판 표면 에서 입자 와" 필름' 을 철저 히 제거 한다. 습식 "스테이션 '의" 린싱' 모듈 은 청소 과정 후 기판 표면 의 청결 함 을 보장 하는 데 필수적 이다. 고순도 물 재순환 시스템 (high-purity water recirculation systems) 과 여과 장치 (filtration unit) 가 장착되어 있어 기판 표면에서 남은 불순물과 잔기를 제거하고 추가 처리를 준비합니다. KCT-W300F 습식 스테이션의 건조 모듈은 핫 에어 블링 (hot air blowing), 적외선 방사선 (infrared radiation), 스핀 건조 (spin drying) 와 같은 고급 기술을 사용하여 워터 마크 또는 오염 물질을 남기지 않고 기판 표면을 빠르고 효과적으로 건조시킵니다. 이 로 말미암아 기질 은 완전 히 건조 하고, 습기 가 없어진 상태 에 있게 되며, 그 다음 과정 을 밟게 된다. 그렇다. KC TECH KCT-W300F 습식 스테이션 (Wet Station) 은 기본 청소, 린싱 및 건조 모듈 외에도 다양한 화학 용액의 적용을 통해 기질의 표면 변형 및 기능화를 허용하는 화학 처리 모듈을 갖추고 있습니다. 이 모듈에는 정밀 투여 시스템 (precision dosing system) 과 온도 조절 목욕탕이 장착되어 있어 프로세스 요구 사항에 따라 정확하고 반복 가능한 화학 치료가 가능합니다. KCT-W300F 습식 스테이션 (wet station) 은 모든 프로세스 매개변수와 제어 설정에 쉽게 액세스할 수 있는 사용자 친화적 인터페이스로 설계되었습니다. 고급 모니터링 (Advanced Monitoring) 및 진단 시스템 (Diagnostics System) 을 장착하여 프로세스 상태를 지속적으로 모니터링하고 모든 편차 또는 이상에 대해 사용자에게 경고하여 일관되고 안정적인 운영을 보장합니다. 전반적으로 KC TECH KCT-W300F 습식 스테이션 (wet station) 은 고급 반도체 장치의 고품질, 신뢰성 있는 청소 및 표면 준비를 추구하는 반도체 제조업체를 위한 최첨단 솔루션입니다. 모듈식 설계, 고급 클리닝 기술, 정밀한 프로세스 제어 (process control) 기능을 통해 다양한 반도체 처리 어플리케이션을 위한 다용도 및 효율적인 툴이 될 수 있습니다.
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