판매용 중고 DNS / DAINIPPON SU-3200 #293828146
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ID: 293828146
웨이퍼 크기: 3"
빈티지: 2014
Wafer cleaning system, 3"
(8) Chambers
(4) Load port
Chemical: DHF, NH4OH ,H2O2 ,IPA ,03
Overhead Transport System (OHT)
SINFONIA TECHNOLOGY SELOP12F25-S7DB033F
Double robot arms
Process chamber unit:
Tower-1 : MPC-2,3
Tower-2 : MPC-4,5,6
Tower-3 : MPC-7,8,9
Chemical Cabinet:
SC-1
DHF
O3
CO2
CDA N2
DIW
PCW
FOUP Load port:
(4) Load port
FOUP Type: No N2 Purge
SINFONIA TECH NOLOGY
SELOP12F25-S7DB033F
30D65K-C212 Servo pack
Double robot arms
Material: Ceramic
KAWASAKI
3NT 420B-B029
NT4203452
XU-ACT153L-H01
YASUKAWA ELECTRIC CORP
30D65K-C212 Servo pack
Material: Ceramic
KAWASAKI
3SD940S-A006
SD9400150
E FLOW
e Flow SD90B-R11-F-VB
MPC chamber: 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9
Scan nozzle - 1:
Nozzle - 1: DHF (LFC), DIW(LFC)
Suck back drain
Nozzle - 2: O3 (MN), CO2W(MN)
Suck back drain
Nozzle - 3: IPA
Suck back drain
1 Upper nozzle N2 Purge
1 Lower nozzle N2 Purge
1 and 2 Nozzle rinse
Scan nozzle - 2:
Nozzle - 1: SC-1 (LFC), CO2W(MN)
Suck back drain
Nano spray 1: SC-1 (LFC), CO2W(MN)
Nano spray N2
Suck back drain
2 Upper nozzle N2 Purge
2 Lower nozzle N2 Purge
Back side nozzle:
Nozzle chemical dispense: DHF, SC-1, O3 ,CO2
Suck back Drain
Dispense
Fixed nozzle:
Nozzle rinse
Chuck pin rinse
Spin base rinse
Fixed cup
Exhaust duct rinse
Shutter N2 Blow
Chamber wall rinse
Shutter drive: Air cylinder
Chemical cabinet (SC-1):
Mixing tank capacity: 45 Liter
Material: PTFE Teflon
Circulation pump: Pillar / PE-20MA
Pump damper: Pillar / A20S013 / 14722-3
Temp controller: DNS Special
Heating exchange: DNS Special
Temp range: 20 ~ 80°C
(4) Flow meter
(2) Houshing filter
Chemical cabinet (DHF):
Mixing tank capacity: 45 Liter
Material: PTFE Teflon
Circulation pump: Pillar / PE-40MA
Pump damper: A40S018 / 14610-3
(2) Houshing filter
(4) Flow meter
Temp controller: KOMATSU
Heating exchange: KOMATSU
Temp range: 20 ~ 30°C
O3 Cabinet (LIQUOZON):
ASTeX GmbH PN: 14-0038-P00AA1007
DIO3 Outlet pressure: 14 - 36 psi (1.0 ~ 2.5 bar)
O2 Inlet pressure: 65 - 110 psi (4.5 ~ 7.6 bar)
CO2 Inlet pressure: 73 - 36 psi (5.0 ~ 7.6 bar)
UPW Inlet pressure: 48 - 73 psi (3.3 ~ 5.0 bar)
CDA Inlet pressure: 75 - 119 psi (5.2 ~ 8.2 bar)
Main cooling water pressure: 29 psi (2.0 bar)
Max cool water press: 73 psi (5.0 bar)
Missing parts:
Spin base: Material, Spin motor, Revolution, Acceleration, Revolution accuracy
Chuck: Chuck drive, Material, Wafer detection
Main H/D
Spin base (MPC - 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9)
MPC board assy (MPC - 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9)
MPC flow meter switch (MPC - 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9)
CR ROBOT
INDEX ROBOT Servo drive
MPC - 2 (Chemical tray)
Power supply: Phase 3, 208V, 39kVA, 108A (Wire (S)+GND/PE, 50/60Hz
UPS Power supply: Phase 3, 208V, 20VA, 56A (Wire (S)+GND/PE, 50/60Hz
Power supply (4 - wire): 3/PE-200~230V ±10% 14A 50/60Hz
2014 vintage.
DNS/DAINIPPON SU-3200은 기판 청소, 에칭 및 개발을 위해 반도체 제조 공정에 사용되는 최첨단 습식 스테이션입니다. 이 다목적 도구는 단일 플랫폼에서 다양한 기능을 결합하여, 웨이퍼 처리에 매우 정밀하고 효율적입니다. 고급 기능과 자동 기능을 갖춘 DNS SU3200 은 집적 회로 (integrated circuit) 및 기타 반도체 장치 생산에 있어 매우 중요한 도구입니다. DAINIPPON SU 3200의 핵심은 단일 유닛에 여러 프로세스 단계를 수용하기위한 설계입니다. 이 습식 스테이션에는 화학 분배, 링, 건조 및 스핀 코팅 (spin coating) 을 포함한 다양한 모듈이 포함되어 있으므로 다른 처리 단계 사이에서 원활한 전환이 가능합니다. DNS/DAINIPPON SU3200 의 모듈식 설계는 다양한 반도체 구성 프로세스의 특정 요구 사항을 충족하는 맞춤형 구성과 유연성을 제공합니다. DAINIPPON SU3200 의 주요 기능 중 하나는 프로세스 매개변수에 대한 정확한 제어입니다. 장비에는 온도, 압력, 흐름 속도, 타이밍 (timing) 과 같은 주요 매개변수를 모니터링하고 조정하는 고급 센서와 컨트롤러가 장착되어 있습니다. 이 수준의 제어는 균일하고 재현 가능한 처리 결과를 보장하며, 사양이 단단한 고품질의 반도체 (semiconductor) 장치를 달성하는 데 매우 중요합니다. 청소 기능의 관점에서, SU3200은 웨이퍼 표면에서 오염 물질을 제거하는 데 뛰어납니다. 이 시스템은 공정의 요구 사항에 따라 메가소닉 클리닝 (megasonic cleaning), 브러쉬 클리닝 (brush cleaning), 화학 에칭 (chemical etching) 과 같은 다양한 청소 기술을 수행 할 수 있습니다. 또한, DNS/DAINIPPON SU 3200은 제어 된 유속 (flow rate) 을 가진 여러 개의 린스 목욕을 가지고 있어 웨이퍼 표면에서 클리닝 제와 잔기를 철저히 제거한다. DNS SU-3200 은 패턴 및 디바이스 제작을 위한 에칭 프로세스도 지원합니다. 이 장치는 습식 에칭 (wet etching) 과 건식 에칭 (dry etching) 프로세스를 모두 처리 할 수 있으며, 반도체 기판에서 원하는 패턴을 만드는 데 다재다능합니다. 에찬트 농도, 온도, 노출 시간 을 정확 하게 제어 하면 "웨이퍼 '표면 을 가로질러 정확 하고 균일 한" 에칭' 을 할 수 있다. SU 3200의 또 다른 중요한 기능은 photoresist 패턴화에 대한 개발 프로세스를 수행하는 능력입니다. 이 기계는 포토 esist 재료를 웨이퍼 표면에 분배하고, 스핀 코트 (spin-coat) 하여 균일 한 층을 달성 할 수 있으며, 특수 화학 물질을 사용하여 패턴을 개발할 수 있습니다. 이 기능은 고해상도와 정확도로 반도체 (반도체) 장치의 기능을 정의하는 데 매우 중요합니다. DAINIPPON SU-3200은 처리 기능 외에도 안정성과 사용 편의성을 위해 설계되었습니다. 이 툴은 프로그래밍 및 모니터링 프로세스를 위한 사용자 친화적 인터페이스와 자산 유지 관리/문제 해결을 위한 진단 툴 (Diagnostic Tools) 을 갖추고 있습니다. 강력한 구성요소 (Struction and Quality Component) 는 장기적인 성능과 다운타임을 최소화하여 반도체 제조 설비의 전반적인 생산성에 기여합니다. 결론적으로, SU-3200 습식 스테이션은 반도체 제조 공정에 다재다능하고 효율적인 도구입니다. 고급 기능을 통해 청소, 에칭, 개발 및 기타 기능을 제공하는 DNS SU 3200 은 고품질 반도체 디바이스를 생산하는 데 중요한 역할을 합니다. 정밀 제어, 유연성, 신뢰성은 현대 반도체 제작 시설에서 귀중한 자산이됩니다.
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