판매용 중고 DNS / DAINIPPON SU-3100 #293813602

DNS/DAINIPPON SU-3100 습식 스테이션은 반도체 제조 공정을 위해 설계된 특수 청소 장비입니다. 이 습식 스테이션은 다양한 기술과 정밀 배송 (precision delivery) 을 결합하여 고정밀 청소 성능을 제공합니다. 고급 비전 시스템 (Advanced Vision System) 은 상위/하위 수준의 웨이퍼를 검사할 수 있으며, 사용자의 요구에 맞게 조정할 수 있는 수동/자동 스테이션 (Manual/Automated Station) 기능이 통합되어 있습니다. DNS SU-3100은 소스 챔버, 폴리머 클리닝 챔버, 가스 주입 챔버 및 세척 챔버가있는 주요 유닛으로 구성됩니다. 소스 챔버 (source chamber) 는 청소 목적으로 웨이퍼에 균일 한 화학 물질의 흐름을 제공하도록 설계되었습니다. 폴리머 클리닝 챔버 (polymer cleaning chamber) 는 고급 필터를 사용하여 웨이퍼 (wafer) 표면에 도달하기 전에 고체를 분리하여 표면이 깨끗하고 유기 오염이 없도록 합니다. "가스 '주입" 챔버' 는 청소 과정 중 에 반응성 있는 "가스 '를 첨가 하여 처리 단계 마다 화학 을 최적화 한다. 세탁실 에는 전체 "웨이퍼 '에 걸친 화학 물질 의 흐름 을 제어 하기 위하여" 프로그램' 가능 한 "밸브 '도 갖추어져 있다. 즉, 여러 위치에서 여러 웨이퍼를 청소할 때 보다 뛰어난 제어 및 정확성을 제공하는 고급 (advanced) 기능입니다. 이러한 구성 요소와 장치 (unit) 작업의 조합은 프로세스 편차가 최소화되어 높은 수준의 성능을 보장합니다. 또한 DAINIPPON SU 3100에는 이 기계의 다양성과 효율성을 높이기 위해 다양한 보조 장비가 포함되어 있습니다. 여기에는 화학 스플래시를 줄이는 화학 커튼 (chemical curtain) 과 오염 위험을 최소화하는 다중 벤츄리 퍼지 도구 (multi-venturi purge tool) 가 포함됩니다. 파퍼 (wafer) 표면을 빠르고 효과적으로 건조시킬 수있는 입자 이동 위험과 터보 플래시 (turboflash) 건조 자산을 제거하는 빠른 건조 기능도 있습니다. DNS SU 3100 은 완전한 자동화 기능도 갖추고 있습니다. 이렇게 하면 사용자가 작업을 프로그래밍하고, 원격으로, 즉석에서 프로세스 매개변수를 조정할 수 있습니다. 이를 통해, 보다 빠르고 정확한 모델 작업을 수행할 수 있으며, 최소한의 개입으로 최적의 성능을 보장합니다. 또한 SU 3100 에는 고급 모니터링 및 피드백 (feedback) 시스템이 포함되어 있어 결과를 극대화할 수 있도록 실시간으로 프로세스를 조정할 수 있습니다. 전반적으로, DAINIPPON SU-3100 습식 스테이션은 반도체 제조 공정의 요구를 충족시키기 위해 설계된 강력하고 다양한 장비입니다. 광범위한 기능, 고급 정밀 제공 (Advanced Precision Delivery), 완벽한 자동화 (Full Automation) 기능을 갖춘 이 시스템은 동급 최고 수준의 성능과 정확성을 달성할 수 있습니다.