판매용 중고 DNS / DAINIPPON FC-300 #9216073

DNS/DAINIPPON FC-300은 반도체 제조 공정의 표면 청소, 이온화 제거, 최종 단계 링 등 다양한 작업에 사용되는 습식 스테이션입니다. 저렴한 장비이며 설치 및 유지 보수가 용이합니다. DNS FC-300은 3 개의 탱크 (Ultraseal bath, de-ionization 용 탱크 및 clean-water tank) 로 구성된 플로어 스탠딩 모델로, 직렬로 연결되어 초음파 매트로 밀봉됩니다. 초음파 매트 (Ultraseal mat) 는 유출 또는 누출을 방지하고 탱크가 일정한 온도를 유지하도록 제어 된 물 봉인을 설정합니다. Ultraseal 욕조는 칩, 산화물 잔류 물, 플럭스와 같은 표면 토양을 제거하는 2 개의 구획으로 나뉩니다. 탈 이온화 탱크는 물에 용해 된 이온을 제거하여 고도로 정제 된 최종 결과를 얻습니다. 깨끗한 물 탱크는 필요한 시스템에 순수한 물을 저장하고 공급합니다. DAINIPPON FC-300 은 프로세스 사이클을 조절하고 운영자에게 모든 불일치를 통지하는 제어 장치 (Control Unit) 를 내장하고 있습니다. 여기에는 탱크 플러시 시퀀스 및 청소제 및 이온화 제거 화학 물질의 주입이 포함됩니다. 이 기계는 또한 온도 및 기타 매개변수 수준을 모니터링하여 정확성과 안전을 보장합니다. FC-300 에는 과열, 압력 손실, 열 과부하 및 기타 가능한 사고를 방지하기 위한 최신 안전 장비가 장착되어 있습니다. 내장 수동 제어 압력 밸브는 급수 (water supply) 와 압력을 제어하고 압력 (pressure) 및 온도 센서는 공정 주기를 보장하고 보호합니다. 이 도구는 에너지 효율이 높도록 설계되었습니다. 2 개의 2.5kW 히터를 사용하여 핫 탱크 온도가 지정된 온도에 더 빨리 도달하도록 합니다. 한편 오버플로 냉각 회로 (overflow cooling circuit) 는 온도가 최대 수준에 도달하면 탱크가 과열되지 않습니다. DNS/DAINIPPON FC-300 은 기존 수선에 쉽게 설치할 수 있으며 기존 반도체 프로세스에 통합될 수 있습니다. 플로어 스탠딩 (floor-standing) 설계로 운영 및 유지 보수가 쉽고 내구성이 뛰어난 파우더 코팅 마감으로 자산의 수명이 늘어납니다. 모델을 가장 제한된 작업공간에 맞게 구성할 수 있습니다. 전반적으로 DNS FC-300 (DNS FC-300) 은 효과적이고 사용자 친화적 인 습식 스테이션으로, 표면을 효과적으로 청소하고, 물을 탈이온화하고, 제조 공정에서 최종 린스를 제공하며, 반도체 산업과 같은 광범위한 용도에 적합합니다.