판매용 중고 AKRION UP-V2-HL 2000 #19302

AKRION UP-V2-HL 2000은 표면 청소, 웨이퍼 에칭, 포스트 클리닝 등을 처리하도록 설계된 고급 습식 스테이션입니다. 단일 장비 내에 통합된 다단계 프로세스 챔버 (Multi-Stage Process Chamber) 로, 직원이 각 단계의 진행 상황을 개별적으로 모니터링하고 제어할 수 있습니다. 이 시스템은 매우 유연하며, 다양한 재료와 프로세스를 수용할 수 있습니다. 이 단위는 나노 스케일의 폴리 실리 콘 (polysilicon) 및 기타 물질을 에치하는 데 금속 이온을 사용하는 저압, 폴리 실리콘 결정 에칭 단계로 시작합니다. 이 단계 에 뒤 이어 "포스트 클린 '단계 가 나오는데, 임의의 잔여 금속" 이온' 을 제거 하고 그 과정 의 다음 단계 를 위하여 가공소재 를 청소 한다. 다음 두 단계는 고압 건식 청소 과정을 포함합니다. 이 고압 드라이 클리닝 공정은 뜨거운 공기, 아르곤 가스, 산소의 조합을 사용하여 원치 않는 입자를 제거하고 웨이퍼 표면 특성을 향상시킵니다. 기계 는 또한 "가스 '의 온도 를 조절 하여 매우 정확 한 결과 를 낼 수 있다. 이 도구는 리소그래피, photolithography, ion implantation, diffusions 및 etching을 포함한 다양한 프로세스와 호환됩니다. UP-V2-HL 2000은 프로세스의 각 단계를 직접 제어하는 고급 사용자 인터페이스 (Advanced User Interface) 를 갖추고 있습니다. 이를 통해 직원은 각 단계의 품질을 신속하게 분석하고 필요에 따라 변경하여 전체 작업 (operation) 을 완벽하게 제어할 수 있습니다. 마지막으로, 자산에는 실험실의 안전을 보장하는 긴급 종료 (Emergency Shutdown) 기능이 장착되어 있습니다. 이 모델에는 자동 리필링 옵션 (auto-repilling option) 이 장착되어 있어 직원들이 장기간 장비들을 안전하게 방치할 수 있습니다. AKRION UP-V2-HL 2000은 복잡한 프로세스를 쉽게 처리 할 수있는 고급 습식 스테이션입니다. 사용자 친화적 인 인터페이스와 유연성을 통해 다양한 서피스 클리닝 (surface cleaning) 및 에칭 (etching) 작업에 적합합니다.