판매용 중고 ACM Ultra C #293758647

제조사
ACM
모델
Ultra C
ID: 293758647
웨이퍼 크기: 8"-12"
Wet cleaning system, 8"-12" (4) Loading ports EFEM Aligner and robot Chuck Type: Mechanical Clean chemical: DIO3, SC1, SC2, dHF, F water, IPA (2) Process robots (12) Process chambers SAPS Wafer cleaning system SAPS Mega Sonic: 0-1.5 w/cm² Uniform supersonic power density: WIWNU <2% Particle performance: ≤10 at 30 nm Metal pollution: ≤ 1 x 10^10 atoms/cm² Throughput: 225 WPH (90s recipe) Pre-isolation metal deposition (8) Chambers Nodes shrink: 65 nm - 22 nm Model / Chamber number / Chemicals / Robot number / Throughput SAPS II / 8 (3/2/3) / 3+DI+IPA / 1 / 300 WPH SAPS III / 8 (4/4) / 2+DI / 2 / 350 WPH SAPS V / 12 (3/3/3/3) / 3+DI+IPA / 3 / 600 WPH Drying method: N2 Rotary drying Liquid IPA.
ACM 울트라 C (Ultra C) 는 고급 기술과 기능을 통합하여 반도체 제조 공정에서 효율적이고, 정확하며, 안정적인 성능을 제공하는 최첨단 습식 스테이션입니다. 이 습식 스테이션 (Wet Station) 은 높은 생산성 및 생산성 향상을 위해 업계의 갈수록 늘어나는 요구에 부응하고, 프로세스 매개변수에 대한 뛰어난 품질과 제어를 보장하도록 설계되었습니다. 울트라 C (Ultra C) 웨트 스테이션 (Wet Station) 은 특정 프로세스 요구 사항을 충족하고 반도체 제조 환경의 변화하는 요구에 맞게 사용자 정의할 수 있는 다용도 및 유연한 도구입니다. ACM Ultra C 웨트 스테이션 (wet station) 은 성능과 기능을 향상시키는 다양한 혁신적인 기술을 갖추고 있습니다. 이 습식 스테이션 (wet station) 의 주요 특징 중 하나는 고급 자동화 장비 (automation equipment) 로, 습식 프로세스 단계를 정확하게 제어하고 모니터링할 수 있습니다. 자동화 시스템 (Automation System) 은 프로세스의 오류 및 가변성을 최소화하여 일관되고 안정적인 결과를 보장합니다. 또한 습식 스테이션 (wet station) 을 원격 모니터링 및 제어할 수 있으며, 운영자가 프로세스 매개변수를 최적화하고 문제 해결을 실시간으로 수행할 수 있습니다. Ultra C 습식 스테이션의 또 다른 중요한 특징은 고급 화학 전달 장치입니다. 이 기계는 매우 정밀하고 반복 성으로 화학 물질을 정확하게 분배하고 솔루션을 처리하도록 설계되었습니다. 화학적 전달 의 정확 한 제어 는 습기 있는 공정 단계 의 균일성 을 보장 해 주며, 그 결과 의 변화 를 최소화 시켜, 공정 의 신뢰성 과 생산성 을 향상 시킨다. 그렇다. 화학적 전달 도구 (chemical delivery tool) 에는 첨단 센서와 모니터링 기술이 탑재되어 화학적 누수 (chemical leaks) 나 부적절한 분배 (property dispensing) 와 같은 문제를 감지하고 방지하여 공정의 안전성과 무결성을 보장합니다. ACM 울트라 C (Ultra C) 습식 스테이션에는 고급 자동화 및 화학 전달 시스템 외에도 다양한 프로세스 제어 및 모니터링 기술이 장착되어 있습니다. 여기에는 온도, 압력, 유속, 화학 농도와 같은 프로세스 매개 변수의 실시간 모니터링이 포함됩니다. 습식 스테이션 (Wet Station) 은 프로세스 조건을 최적화하고 원하는 사양의 편차를 감지하기 위해 이러한 센서의 데이터를 수집, 분석할 수 있습니다. 이러한 수준의 제어 및 모니터링을 통해 운영자는 정보화된 의사 결정 및 조정을 통해 프로세스 안정성과 일관성을 보장할 수 있습니다 (영문). Ultra C 습식 스테이션은 사용자 친화적이며 작동하기 쉽도록 설계되었습니다. 직관적인 인터페이스 (interface) 를 통해 운영자가 프로세스 매개변수 설정 및 모니터링, 실시간 데이터 보기, 문제 해결 등을 효율적으로 수행할 수 있습니다. 유통국 (Wet Station) 은 또한 화학적 공정과 관련된 잠재적 위험으로부터 운영자와 환경을 보호하기 위해 내장 안전 기능을 갖추고 있습니다. 이러한 안전 기능에는 긴급 정지 버튼, 누수 감지 센서, 심각한 장애의 경우 자동 종료 프로토콜 (Automated Shutdown Protocol) 이 포함됩니다. 전반적으로 ACM Ultra C 습식 스테이션은 반도체 제조 공정에서 고성능, 안정성, 유연성을 제공하는 최첨단 도구입니다. 첨단 기술과 기능을 통해 습식 프로세스를 정확하게 제어, 모니터링, 자동화하여 반도체 제작의 생산성, 생산성, 생산성, 품질이 향상되었습니다. 울트라 C (Ultra C) 웨트 스테이션 (Wet Station) 은 사용자 친화적 인 인터페이스와 강력한 안전 기능을 갖춘 반도체 제조업체를 위한 이상적인 솔루션으로, 습식 (Wet) 처리 작업을 최적화하고 경쟁 업계에서 앞서가고자 합니다.
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