판매용 중고 RUDOLPH MetaPulse 200X-Cu #9223287

ID: 9223287
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 2002
Thin film thickness metrology system, 8" System type: SMIF Cu Measurement Illumination (Diode pumped ultra-fast laser): Wave length: 800 nm, Output 1000 W Wave length: 400 nm, Output 250 W Plus band: 100 x 10^-15 sec Laser incident angle: 40° Fixed Measurement spot size: Wave length 400 nm: 7 x 10 μm Wave length 800 nm: 14 x 20 μm Measurable pattern size: ≦50 μm Measurement film: Single layer metal film Multi layer metal film Measurement module: Calibration W sample wafer Delay stage Microscope ULPA Filter Wafer positioning X-Y Wafer stage Full auto flat / Notch finder Diode laser (670 nm, Max output: 3 mW) Controller: PC: IBM Compatible OS: IBM OS/2 Warp (Version 3) Keyboard LCD, 15" Wafer transfer module: Robot module Wafer handling robot Cassette interface Chiller module: Cooling water flow: 5 L/min Capacity: 5 L DI Water Water temperature: 25°C±1°C Supply water temperature: 25℃±5°C 2002 vintage.
RUDOLPH MetaPulse 200X-Cu는 웨이퍼 품질을 보장하기 위해 차원, 광학 및 전기 측정을 제공하도록 설계된 웨이퍼 테스트 및 도량형 장비입니다. 이 시스템은 혁신적인 레이저 간섭계 (laser interferometer) 단계를 사용하여 빠르고 정확하며 반복 가능한 측정을 제공합니다. 단위가 제공하는 측정값의 반복 성은 X 및 Y 방향에서 1 m 미만입니다. 이 기계는 전자 빔 마이크로 (microprobe) 스캔 소프트웨어와 프로세스 및 결함 분석을 포함한 포괄적인 소프트웨어 제품군을 갖추고 있습니다. 또한 여러 기판에 걸쳐 지형, 전기 및 기능 수준의 측정을 비교할 수있는 기능이 풍부한 다이 투 다이 (die-to-die) 비교 패키지를 제공합니다. 공구가 제공하는 프로세스 제어 (process control) 를 통해 임계 치수가 원하는 사양 내에서 균일하게 유지됩니다. 에셋은 두께, 전기 접촉 저항, 서피스 마무리, 프로세스 피쳐와 같은 매개변수를 측정 할 수 있습니다. 또한 디포커스 렌즈 검사 모델 (defocus lens inspection model), 경량 현미경 (light microscope) 및 전압 측정 장비와 같은 다양한 도량형 도구가 있습니다. 이 시스템은 또한 현미경의 수동 초점이 필요하지 않은 정확한 자동 초점 (auto-focus) 기능을 갖추고 있습니다. 200X-Cu 장치에는 고급 고정밀 다이 검사 머신이 장착되어 있어 정확하고 반복 가능한 다이 투 다이 (die-to-die) 비교 측정이 가능합니다. 또한 고정밀 다이 투 다이 치수 측정 도구와 고정도 임피던스 측정 자산을 제공합니다. 이 모델은 종합적인 도량형 툴 외에도 구성 가능한 하드웨어/소프트웨어 환경을 제공하여 처리량 및 데이터 수집 (Data Collection) 의 정확성을 극대화합니다. 또한, 장비에는 직관적인 터치 스크린 사용자 인터페이스 (Touch Screen User Interface) 가 장착되어 있으므로 다른 측정 모드를 빠르고 쉽게 전환 할 수 있습니다. 풍부한 RUDOLPH METAPULSE 200XCU Interferometer는 웨이퍼 테스트 및 도량형을위한 훌륭한 선택입니다. 포괄적인 소프트웨어/하드웨어 툴과 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 를 통해, 이 시스템은 매우 정확하고, 정확하며, 반복 가능한 측정값을 보장합니다. 이 장치는 모든 반도체 제작 및 클린 룸 시설에 귀중한 추가 기능입니다.
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