판매용 중고 NANOMETRICS LYNX #9212673
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ID: 9212673
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2011
Critical dimension measurement system, 12"
Nano OCD
Loading configuration: (4) Load ports
EFEM
Metro unit
Power rating: 200 VAC~240 VAC, Single phase
2011 vintage.
NANOMETRICS LYNX는 웨이퍼 테스트 및 도량형에서 인정받는 업계 리더입니다. 최첨단 측정 기술을 통합하여 파퍼 레벨 테스트 (wafer level testing) 및 도량형 (metrology) 작업을 전례 없는 속도와 정확도로 수행합니다. 이 장비는 다양한 웨이퍼 재료 유형, 주로 실리콘 웨이퍼 및 실리콘/저마늄 (SiGe) 웨이퍼에 실시간, 고속, 비 침습적 및 높은 정확도 도량형을 제공합니다. LYNX 시스템은 스테퍼 (stepper) 및 기타 관련 프로세스 장비를 제어하고 고출력 반도체 설계에서 와퍼의 기능 크기 균일성을 향상시키는 등 리소그래피 (lithography) 장비와 긴밀히 협력하도록 설계되었습니다. 고해상도 고속 이미징 (High-Resolution, High-Speed Imaging) 기능을 갖춘 이 장치는 고해상도 (High-Magnization) 설정과 저배율 (Lyhographically-formed) 설정 모두에서 웨이퍼 (Wafer's Surface) 표면에서 석판으로 구성된 피쳐를 빠르고 정확하게 측정할 수 있습니다. 또한, 기계에는 자동 패턴 인식 (automated pattern recognition) 작업이 가능한 고급 측정 엔진이 포함되어 있습니다. 고도로 최적화된 알고리즘을 사용하여 웨이퍼 (wafer) 의 주요 피쳐를 식별하고 자동으로 실제 위치 (true position) 측정을 생성합니다. 이 프로세스를 통해 도구는 마이크로 초 정밀도로 웨이퍼 레벨 다이 배치 정밀도 측정을 제공 할 수 있습니다. 이 에셋에는 강력한 제어 플랫폼도 포함되어 있으며, 사용자가 사용자 기본 설정에 따라 설정 (setup) 매개변수를 쉽게 구성하고 수정할 수 있습니다. 즉, 사용자 지정 요구 사항을 저장하여 가장 까다로운 도량형 (metrology) 프로젝트를 위해 모델을 빠르고 쉽게 설정할 수 있습니다. NANOMETRICS LYNX 하드웨어는 고속, 고해상도 이미징 장비, 장치 구성 요소 보정을위한 정밀 정렬 시스템 및 스테퍼 호환 제어 시스템으로 구성됩니다. 라인 너비 (line width), 피쳐 높이 (feature height), 기울기 (tilt), 결함 등급 등 다양한 측정 기능을 제공하는 소프트웨어 제품군과 통합되어 있습니다. 또한 이미지 분할 (image segmentation), 자동 고정장치 식별 (automatic fixture identification) 및 조정 (calibration) 및 여러 언어를 지원하는 강력한 기능을 제공합니다. 또한, 고급 최적화 도구 (Advanced Optimization Tools) 를 제공하여 검출기의 성능을 자동으로 향상시키고 환경에서 발생하는 소음을 최소화하여 공구의 모든 잠재력을 발휘합니다. 에셋은 모듈식 (modular) 설계로 제작되었으며, 사용자는 추가 컴포넌트로 모델을 구성할 수 있습니다. 이 확장성을 통해 장비는 다양한 웨이퍼 (Wafer) 크기와 특성에 대해 정확하고 반복적으로 측정 할 수 있습니다. 전반적으로 LYNX 시스템은 업계 최고의 도량형 도량형으로, 파퍼 수준의 다이 배치 정확도 측정을위한 리소그래피 (lithography) 장비와 원활하게 통합되어 전례없는 속도와 정확도를 갖춘 고품질 측정이 가능합니다.
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