판매용 중고 NANOMETRICS ECV PRO #9099083

나노 메트릭 ECV PRO (NANOMETRICS ECV PRO) 는 반도체 웨이퍼 및 장치의 전기적, 광학적 특성을 매우 정확하고 정확하게 측정하도록 설계된 강력하고 자동화된 웨이퍼 테스트 및 도량형 장비입니다. NANOMETRICS ECVPRO는 단면 특성, 접촉 저항, 평면도, 평면, 측면 전류 분포, 온도 의존도 및 게이트 누출 전류와 같은 매개변수를 측정 할 수 있습니다. 고정밀 평면 스캔 시스템, 고출력 조명 장치, 종합 측정 라이브러리 등이 있습니다. 독보적인 설계로 웨이퍼 테스트 (wafer test) 와 도량형 (metrology) 을 빠르고 쉽게 설정할 수 있는 반면, 고급 소프트웨어는 효율적이고 정확한 데이터 관리 기능을 제공합니다. ECV PRO 기계는 기본 단위, 높은 정확도 평면 스캐너, 고출력 조명 도구, 정확한 측정 및 데이터 획득을 위한 Windows 기반 측정/제어 소프트웨어 패키지로 구성됩니다. 평면 스캐너를 사용하면 전체 웨이퍼 서피스에서 정확하고 정확한 측정이 가능합니다. 모든 종류의 전기 또는 광학 웨이퍼 매개변수를 측정 할 수 있으며, 챔버-챔버 (chamber-to-chamber) 변형을 제거하기 위해 자체 교정합니다. 고출력 조명 (HPL) 자산은 레이저 플래시, 에지 및 코너 조명, 균일하고 지역화된 조명, 기타 다양한 조명 도구 등 다양한 동적 조명 옵션을 제공합니다. ECVPRO 모델은 수십 개의 미리 정의된 분석 함수를 포함하는 포괄적이고 정확한 측정 라이브러리를 제공하며, 테스트 및 데이터 분석 사용자 정의를위한 강력한 매크로 프로그래밍 언어 (macro programming language) 를 제공합니다. 보다 복잡한 테스트를 위해, 장비는 주요 반도체 회사의 기성품 스크립트를 갖춘 사전 구성된 매크로 라이브러리를 포함합니다. 또한 강력한 그래픽 사용자 인터페이스 (Graphical User Interface) 를 통해 테스트의 사용, 제어 및 데이터 분석을 용이하게 합니다. 이 시스템은 안전성 (Safety Interlock) 및 사용자와 장비를 모두 보호하는 기타 안전 (Safety) 기능을 통해 모든 안전 요구 사항을 충족하도록 설계되었습니다. 또한 UL 인증 및 CMA/CE 인증을 포함한 다양한 표준 기관으로부터 인증을 받았습니다. 전반적으로 NANOMETRICS ECV PRO 웨이퍼 테스트 및 도량형 장치는 견고하고 신뢰할 수있는 기계로, 매우 정확한 결과를 제공합니다. 자동화된 설계, 고정밀 측정 도구, 강력한 매크로 프로그래밍 언어는 모든 반도체 웨이퍼 테스트 (wafer testing) 및 도량형 요구에 이상적인 선택입니다.