판매용 중고 LEITZ LIS #9283430

LEITZ LIS (Laser-Enhanced Image Metrology equipment) 는 마이크로 또는 나노 미터 스케일에서 반도체 칩 또는 웨이퍼 표면을 분석하는 데 사용되는 웨이퍼 테스트 및 도량형 시스템입니다. 이 장치는 매우 복잡한 반도체 장치의 모양, 구조, 기능에 대한 강력하고, 정교하며, 정확한 분석을 제공하며, 표면 지형, 질감, 표면 오염, 결함, 오버레이 정확도를 감지하고 특성화하는 등 다양한 측정을 수행 할 수 있습니다. LIS는 광학 초점 현미경과 레이저 간섭 (laser interferencing) 을 주 센서로 결합한 것을 기반으로합니다. 초점 현미경은 고해상도 레이저 빔을 사용하여 최대 0.2 ° m/pixel 해상도에서 웨이퍼 표면을 스캔합니다. 사용 된 레이저 간섭 (laser interference) 및 전단 (shearing) 기술은 두 개의 레이저 빔을 사용하여 표면의 상대 높이를 측정합니다. 이 기계는 고속 이미지 처리 알고리즘을 사용하여 3D (3D) 서피스 형태를 계산하고 표면 프로파일, 스텝 높이, 접합 깊이, 오버레이 정확도와 같은 중요한 매개변수를 도출합니다. 이 툴의 분석 기능은 특정 애플리케이션에 대해 사용자 지정 모듈을 사용하여 확장할 수 있습니다. 이러한 모듈을 사용하면 서피스 거칠기, 서피스 결함 분류, 입자 감지, 저항력 분석 등 다양한 매개변수를 측정할 수 있습니다. LEITZ LIS 자산은 또한 실시간 데이터를 수집, 표시 및 분석하는 강력한 소프트웨어를 제공합니다. 직관적인 사용자 인터페이스 (User Interface) 는 다양한 고급 분석 옵션과 데이터를 익스포트, 저장하여 나중에 검토하고 비교할 수 있도록 합니다. 또한, 사용자는 모든 컴퓨터에서 원격으로 모델에 액세스할 수 있으며, 어떠한 위치에서든 해당 분석을 모니터링하고 제어할 수 있습니다. LIS는 많은 연구, 개발, 생산 분야에 사용되는 다용도, 신뢰성이 뛰어난 장비입니다. 이미지 해상도가 높고 정확한 3D 측정을 통해 복잡한 마이크로 (micro) 및 나노미터 (nanometer) 스케일 기능을 쉽게 분석할 수 있습니다. 이것은 현대 반도체 장치의 품질을 특성화하고 검증하는 데 이상적인 도구입니다.