판매용 중고 KLA / TENCOR / PROMETRIX UV 1250 #9312897

KLA/TENCOR/PROMETRIX UV 1250 Wafer Testing and Metrology 장비는 단일 웨이퍼에서 집적 회로를 검사하기위한 강력한 도구입니다. 각 웨이퍼 (wafer) 에 최대 1250 개의 개별 위치를 샘플링할 수 있으며, 광범위한 매개변수 (parameter) 에 걸쳐 매우 맞춤적이고 정확한 분석이 가능합니다. 이 시스템의 중요한 구성 요소는 초보라광원으로 LFF (Laser-induced Fluorescence Coupling) 및 AFM (Autofluorescence Coupling) 기술을 모두 사용합니다. 특히, 이 장치는 UV 스펙트럼의 광자를 사용하여 웨이퍼 (wafer) 표면의 피쳐와 피쳐를 흥분시키고 검사합니다. LFF를 통해 머신은 서피스의 얇은 절연 레이어 (thin insulating layers) 의 두께를 결정할 수 있습니다. 그런 다음이 정보는 '결함이없는' 영역이라는 잠재적 결함의 유무를 식별하는 데 사용됩니다. 이 도구는 또한 사용자가 조절 할 수있는 우수한 대류권 광학 옵션을 제공합니다. 이러한 설정은 서피스 반사 감소, 웨이퍼 (on-wafer) 이미지 대비 최적화, 웨이퍼 (wafer) 기능 정량화에 사용됩니다. 한편, 자동 광학 설정 (automated optical setup) 은 조명각 (lumination angle) 과 작업 거리 (working distance) 를 신속하게 최적화하여 와퍼 (wafer) 의 전체 표면에서 최적의 성능을 위해서는 광학 요소에 대한 최소한의 조정만 필요합니다. 에셋은 광학 부품 외에도 자동화된 스테이지, 전동식 웨이퍼 척 (Motorized Wafer chuck), 모션 컨트롤러 (Motion Controller) 를 사용합니다. 이러한 하드웨어 조합은 웨이퍼가 항상 측정에 최적으로 배치되도록 합니다. 즉, 현미경이 스캔하는 동안 전체 웨이퍼가 고정되어 있기 때문입니다. 또한, 와퍼 척 (wafer chuck) 은 스캐닝 과정에서 진동이나 오열이 발생하지 않도록 특별히 설계되었습니다. 마지막으로, 이 모델에는 다양한 이미지 분석이 가능한 스펙트럼 이미징 (spectral imaging) 소프트웨어가 포함되어 있습니다. 여기에는 2D 이미지 스티칭, 하위 픽셀 등록 및 이미지 기반 결함 분류가 포함됩니다. 이러한 분석을 통해 미크론 (micron) 수준까지 정밀 분석이 가능하므로 웨이퍼 성능을 매우 정확하게 분석 할 수 있습니다. 결론적으로 KLA UV 1250 Wafer Testing and Metrology 장비는 웨이퍼 테스트를위한 필수 도구이며, 탁월한 정확성과 해상도를 제공합니다. 이 시스템은 레이저, 광 요소, 자동 스테이지 (automated stage) 및 특수 소프트웨어 (specialized software) 의 조합으로 단일 웨이퍼에서 집적 회로를 매우 자세히 분석 할 수 있습니다.