판매용 중고 KLA / TENCOR P22H #9411708

KLA/TENCOR P22H는 반도체 장치의 검사 및 프로세스 제어를 위해 설계된 웨이퍼 테스트 및 도량형 장비입니다. 정교한 알고리즘과 첨단 자동 검사 기술을 결합하여 빠르고 정확한 웨이퍼 (wafer) 생산이 가능합니다. KLA P22 H 시스템은 고해상도 이미징 분광계와 현미경으로 패턴화 된 기판 (patterned and unpatterned substrate) 에서 프로세스 결함을 스캔 및 감지하는 기능을 제공합니다. 여러 파장의 광원 (light source) 을 사용하면 웨이퍼에서 오염 물질을 감지하기 위해 다양한 광학 검사 기술을 적용할 수 있습니다. 그런 다음 검사된 기판은 석판화, 지형적 (togographical) 또는 식자적 결함, 재료 마스킹 (material masking) 또는 형편없는 피쳐 배치 형태의 불규칙성 또는 결함을 감지하기 위해 미리 정해진 기준에 따라 평가됩니다. 이 기계는 또한 중요한 프로세스 매개변수 (process parameter) 의 누적 착용을 모니터링하는 기능을 제공하여 높은 수준의 프로세스와 제품 안정성을 보장합니다. TENCOR P-22H는 3D 항공 우주 다중 센서 자동 초점 (autofocus) 을 제공하여 검사된 각 웨이퍼 표면이 광학 이미징 도구에 최적으로 집중되도록 합니다. 이 자동 초점 에셋 (autofocus asset) 을 사용하면 이미지 품질이 일관되게 유지되므로 검사된 재료의 정확도와 데이터 정확도가 향상됩니다 (영문). 이 모델은 또한 반도체에서 작은 기능에 대한 빠르고 정확한 측정을 제공합니다. 고품질 광학 이미징 장비를 사용하면 웨이퍼 (wafer) 표면에서 패턴을 빠르게 매핑할 수 있습니다. 이 시스템은 회로, 접촉 구멍, 라인 좁게 및 기타 특수 테스트 사이트의 깊이, 영역, 볼륨 측정과 같은 고해상도 응용 프로그램에 적합합니다. KLA/TENCOR P-22H 웨이퍼 테스트 및 도량형 장치는 반도체 업계의 품질 향상, 비용 절감을 위한 이상적인 솔루션입니다. 첨단 자동 검사 기술 (Advanced Automated Inspection Technology) 과 정교한 알고리즘을 결합함으로써, 최적의 웨이퍼 (Wafer) 생산을 위한 최고의 정확성과 속도를 제공합니다.