판매용 중고 KLA / TENCOR P2 #9007474

KLA/TENCOR P2는 다양한 반도체 프로세스 및 결함 검사 응용 프로그램을 위해 설계된 웨이퍼 테스트 및 도량형 장비입니다. 이 시스템은 최고의 정밀도를 갖춘 포괄적인 장애 분석 솔루션을 제공합니다. 전체 웨이퍼 서피스를 높은 해상도와 정확도로 스캔할 수 있습니다. 즉, 이 장치는 독점적 인 KLA 스펙트럼 이미지 처리 기술 (KLA spectral image processing technology) 로 구동되어 프로세스 및 제품 관련 결함을 모두 감지하고 특징 지을 수 있습니다. 기계 의 처리 능력 을 이용 하여 "웨이퍼 '표면 전체 를 몇 분 내 에 스캔 할 수 있다. 이미지 처리 및 결함 특성 정확도 및 속도를 향상시키기 위해 설계된 독점 알고리즘을 포함합니다. 이 도구에는 결함 유물 특성, 결함 우선 순위, 통계 장애 분석 및 결함 추세 분석 기능을 갖춘 고급 통합 소프트웨어가 있습니다. 이 자산에는 낮은 양수 (false-positive) 및 음수 (false-negative) 비율로 시간당 최대 200k 개의 제품 결함을 관리하고 분석하는 도구가 내장되어 있습니다. 이 모델은 또한 사용자가 검사 모드 (Inspection Mode) 사이를 쉽게 전환할 수 있도록 설계되었으며, 다른 프로세스와 응용 프로그램에 사용할 수 있도록 허용합니다. 이 장비는 또한 고해상도 스펙트럼 이미지의 이미지를 제공하는 TENCOR 특허 KORE ™ 기술을 통합했습니다. 전체 서피스에서 이미지를 캡처하고 Critical Dimensions (CD) 및 LER (Line Edge Roughness) 와 같은 광학 매개변수에 대한 자세한 분석을 제공합니다. 이 시스템에는 강력한 광학 도량형 소프트웨어 패키지가 포함되어 있습니다. 이 패키지는 운영자에게 입자, 전위 (dislocation), 힐록 (hillock) 및 기타 광선 및 표면 토폴로지 기능과 같은 작은 결함을 정확하게 특징 지을 수있는 전례없는 기능을 제공합니다. 이 장치는 또한 효율적이고 일관된 결함 특성을 위해 완벽한 자동 결함 분류 (automatic defect classification) 및 결함 크기 분석 도구 (defect size analysis tools) 를 제공합니다. 또한, 이 기계는 기존 도량형 시스템에 쉽게 통합할 수 있도록 설계되었으며, 다양한 소스 (source) 에서 데이터를 수집할 수 있습니다. KLA P-2는 결함 검사 및 웨이퍼 테스트 응용 프로그램을위한 매우 강력한 도구입니다. 고밀도, 정확한 결함 매개 변수 측정 기능을 통해 기존 웨이퍼 테스트 방법 (wafer testing method) 보다 우위를 점할 수 있습니다. 이 툴은 모든 반도체 파운드리 (foundry) 또는 프로덕션 (production) 환경을 위한 필수품입니다.