판매용 중고 KLA / TENCOR P15 #9379431

KLA/TENCOR P15는 현대 반도체 프로세스의 효율적이고 균일 한 측정 및 성능 최적화를 위해 설계된 고성능, 맞춤형 도량형 및 웨이퍼 테스트 장비입니다. KLA P-15는 고급 Telecentric Optics 및 독점 알고리즘을 기반으로 한 최첨단 센서 시스템과 완전자동 컨투어 탐지 장치 (Contour Detection Unit) 를 결합하여 웨이퍼에서 고해상도, 정확한 3 차원 표면 측정을 생성합니다. 기계는 에칭 (etching), CMP, 이온 이식 (ion implantation) 및 리소그래피 (lithography) 와 같은 다양한 프로세스 루프에서 생성 된 웨이퍼의 표면 특징을 빠르고 쉽게 감지 할 수 있습니다. 이를 통해 TENCOR P 15는 스마트 교정 (smart calibration) 을 적용하고 품질 관리 작업을 처리하여 생산 속도를 최대한으로 높일 수 있습니다. P 15에는 실시간 통계 및 시각적 데이터에 기반한 자동화된 라인별 결함 감지, EOL (End-of-Line) 테스트 적용 범위 평가 및 웨이퍼 투 웨이퍼 (Wafer-to-Wafer) 비교 등의 고급 내장 분석 기능이 장착되어 있습니다. 이렇게 하면 프로세스 패턴이 필요한 업계 표준과 일치하고 전체 웨이퍼 (wafer) 에 따라 달라질 수 있습니다. 자동 웨이퍼 매핑을 통해 프로세스 최적화를 로컬 자동 수정 및 추적할 수 있습니다. 또한 TENCOR P15는 패턴, 선폭, 임계 치수, 오버레이 정렬, 필드 내 변형 및 응력을 포함한 광범위한 도량형 매개변수를 정확하게 측정하고 제어하는 것으로 입증되었습니다. 이렇게 하면 사용자에게 프로세스 성능에 대한 전체 보기가 제공됩니다. P15 는 사용이 간편하며, 직관적인 GUI (Graphical User Interface) 를 통해 사용자가 특정 프로세스 요구에 맞게 신속하게 조정할 수 있습니다. 다수 웨이퍼 매핑 (Mapping) 및 웨이퍼 장애 분석 (Wafer Failure Analysis) 애플리케이션에 적합한 포괄적인 자동화 기능을 통해 수익률을 높이고 출시 시간을 단축할 수 있습니다. 또한 KLA P 15 의 정교한 웹 기반 모니터링 툴을 사용하면 프로세스 성능의 시각화 (Visualization) 를 강화하고 입력된 데이터를 중앙 데이터베이스에 안전하게 전송할 수 있으며, 중요한 문제를 적시에 파악하고 해결할 수 있습니다. 또한 정교한 보고/분석 툴을 사용하여 데이터베이스의 데이터를 액세스하고 분석할 수 있습니다. KLA P15 (KLA P15) 는 높은 처리량에서 탁월한 성능을 제공하는 것으로 입증된 견고하고 안정적인 자산으로, 오늘날 급속히 변화하는 반도체 시장의 까다로운 요구를 충족합니다. 첨단 프로세스 기술을 성공적으로 구현하고 최적화할 수 있는 핵심 툴이 될 것입니다 (영문).