판매용 중고 KLA / TENCOR P15 #9004295
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ID: 9004295
웨이퍼 크기: 4"-8"
빈티지: 2005
Wafer surface inspection system, 4"-8"
P/N: 00151-000
PC Configuration:
CPU: Pentium III-C 650 MHz processor
Memory: 128M
20 GB HDD
1.4MB 3.5” Floppy disk drive
OS: Windows NT 4.0
Application software: Version 6.3
Performance requirement:
Vertical range: 0-300 um
Stylus force: 1-50 mg
Constant stylus force control
Dual view optics (sideview: 95-410x, topview: 115-465x)
Black and white camera
Stylus: 2.0 um radius
2005 vintage.
KLA/TENCOR P15는 다양한 반도체 제품의 제조 과정에 대한 효율적인 웨이퍼 테스트 및 모니터링을 위해 특별히 설계된 웨이퍼 테스트 및 도량형 장비입니다. 횡단면 분석, 형태 및 표면 분석 (form & surface analysis) 과 같은 도량형 응용 프로그램과 테스트 워크플로우에 사용할 수있는 다중 센서 시스템입니다. 이 장치는 광학 현미경, 백광 간섭법, 스타일러스 측정, 전기 테스트, 열전 테스트, 음향 현미경 등 다양한 기술을 제공합니다. KLA P-15 기계에는 고급 이미징, 이미지 처리 및 분석 기술이 결합되어 있습니다. 이 도구는 지형, 균일성, 전기 저항과 같은 웨이퍼의 물리적 특성을 감지 할 수 있습니다. 또한 다이 크기, 피치, 모양, 평평 등 다양한 특성 매개 변수를 제공합니다. TENCOR P 15 자산에는 반도체 프로세스가 제작 중에 최적의 모니터링이 가능하도록 해주는 수많은 자동 (automated) 기능이 제공됩니다. 이 모델을 활용하여 제조업 (Manufacturing) 의 전략적 지점에서 웨이퍼 (Wafer) 를 모니터링함으로써, 필요한 경우 제작자가 조기 시정 조치를 취할 수 있습니다. 이 장비는 또한 일관된 제품을 보장하기 위해 웨이퍼 (wafer) 매개변수를 추적 및 조정하는 실시간 시스템을 갖추고 있습니다. 이 장치는 복잡한 웨이퍼 (Wafer) 구성 검사를 개발하기 위한 강력한 데이터 획득, 이미지 처리 및 분석 도구를 제공합니다. 현미경에서 전자 이미지를 캡처하고 데이터를 보고서 (Report) 나 CAD 이미지로 처리하거나, 사용자정의된 알고리즘을 실행하여 입자 수, 에치 속도 (Etch Rate), 에지 품질 (Edge Quality) 및 산출량을 평가할 수 있습니다. 이 기계에는 작은 입자와 더 큰 결함 신호를 분리하기위한 에지 감지 알고리즘 (edge-detection algorithms) 과 알고리즘이 장착되어 있습니다. 빠른 속도와 정확도를 테스트하여 와퍼의 정확하고 포괄적인 특성을 제공할 수 있습니다 (영문). KLA/TENCOR P 15는 원자력 현미경 (AFM), 광석판 촬영 및 플라즈마 에칭을 포함한 광범위한 에너지원을 가지고 있습니다. 데이터 수집 도구 (Data Acquisition Tool) 는 다양한 이미지 및 특성 모드를 지원하며 표준 형식으로 출력을 제공합니다. 다른 테스트 장비와 통합하여 프로세스 제어를 보완할 수도 있습니다. 결국, KLA P 15는 효율적이고 효과적인 제작 모니터링을 위해 설계된 고급 웨이퍼 테스트 및 모니터링 자산입니다. 견고하고 포괄적인 기능은 포괄적인 특성화와 피드백 (feedback) 시스템을 제공하여 운영 제품군의 가시성을 향상시킵니다. 이 모델은 제조 중 결함을 최소화하고, 수익률을 향상시키며, 비용과 리드 타임 (lead time) 을 줄이는 데 매우 유용합니다.
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