판매용 중고 KLA / TENCOR P10 #293643963

KLA/TENCOR P10은 반도체 도량형 및 리소그래피에 사용하도록 설계된 웨이퍼 테스트 및 도량형 장비입니다. 복합 광학 계측 및 결함 검사를 위해 독점적 인 '다중 파장 밀도 파장 분할 다중화 (MW-DWDM)' 기술을 사용하여 반도체 석판화 및 계측 기능을 빠르고 정확하게 분석 할 수 있습니다. KLA P-10의 핵심 구성 요소는 2 차원 (2D) 적응 스캐닝 기능, 고감도 광학 시스템 및 고급 분석 도구입니다. MW-DWDM 기술과 결합 된이 장치의 2D 적응 스캐닝 (Adaptive Scanning) 은 결함 사이트의 빠르고 정확한 스팟 찾기 및 웨이퍼 매핑을 가능하게합니다. 고감도 검출기 (high-sensitivity detector) 는 측정을 수행하는 데 필요한 빛의 양을 줄이는 반면, 기계의 고급 분석 도구 (analytical tools) 와 자동 제어 소프트웨어 (automated control software) 는 샘플의 결함을 신속하게 식별, 평가 및 찾을 수 있습니다. TENCOR P 10은 또한 새로운 스탠드 오프 이상을 감지하고 더 정확하게 결함을 감지하기 위해 독점적 인 편광 영상 도구를 사용합니다. 이 자산은 4 개의 광 렌즈와 고해상도 보완 스캔을 사용하여 미묘한 도량형 및 석판화 결함을 식별합니다. 편광 된 이미징 모델은 향상된 웨이퍼 커버리지를 제공하며 광학 크로스 토크를 줄이는 데 도움이됩니다. P 10의 자동 결함 감지 기능은 KLA/TERNOC의 'MetCam' 장비와 통합되어 있으며, 단일 스캔에서 여러 레이어의 결함을 감지, 분류 및 분리할 수 있습니다. MetCam의 고유 한 알고리즘은 결함과 기능을 정확하게 감지하고 분류하여 값비싼 거짓 경보 속도 (false alarm rate) 를 줄일 수 있습니다. KLA P10 은 또한 고급 광학 도량형 시스템 (Optical Metrology System) 을 갖추고 있으며, 자동 초점 및 자동 매핑 기능을 결합하여 정확한 측정 및 빠른 웨이퍼 매핑을 지원합니다. 이 장치의 효율적인 샘플 처리 및 광학 머신 (Optical Machine) 은 여러 웨이퍼를 분 단위로 처리하여 효율적이고 경제적인 데이터 획득 및 분석을 가능하게 합니다. KLA/TENCOR P-10은 다양한 샘플 형식에 적응할 수 있으므로 다양한 응용 프로그램에서 사용할 수 있습니다. 모듈식 개방형 (Modular, Open Architecture) 은 특정 애플리케이션의 요구 사항을 충족할 수 있도록 확장/축소할 수 있게 해 줍니다. KLA P 10은 비용 효율성을 제공하도록 설계되었으며, 견고한 구조로 안정적이고 내구성이 뛰어납니다. 결론적으로, P-10은 반도체 리소그래피 및 도량형 기능을 빠르고 정확하게 분석 할 수있는 고성능 웨이퍼 테스트 및 도량형 도구입니다. 강력한 결함 감지, 효율적인 샘플 처리, 고해상도 (optical metrology), 빠른 데이터 획득 및 분석을 위한 자동 제어 소프트웨어 등 고급 기능을 제공합니다. 자산의 모듈식 설계 (modular, adaptable design) 와 저렴한 비용으로 인해 모든 반도체 도량형 및 리소그래피 애플리케이션에 큰 가치가 있습니다.